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Process for preparing a mask for sandblasting 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03C-011/12
  • G03C-001/90
출원번호 US-0493909 (1983-05-12)
우선권정보 JP-0079184 (1982-05-13)
발명자 / 주소
  • Nakamura Shohei (Fuji JPX) Tuji Yoshimasa (Fuji JPX)
출원인 / 주소
  • Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha (Osaka JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 7  인용 특허 : 3

초록

A process for preparing a mask for sandblasting, in which there is employed a transparent soluble peel-aid film layer superimposed on a transparent protective film layer to cover a liquid photopolymerizable composition layer. According to the process, the protective film can be readily stripped and

대표청구항

A process for preparing a mask for sandblasting, which comprises the steps of: (a) interposing a liquid photopolymerizable composition layer between a destroyable retainer film layer strippably attached onto the lower surface of a support film layer and a transparent soluble peel-aid film layer supe

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. Kuznetsov Vladimir N. (ulitsa Jubileinaya ; 6 ; kv. 73 Istra Moskovskoi oblasti SUX) Smirnova Nadezhda F. (ulitsa Sovetskaya ; 13 ; kv. 33 Istra Moskovskoi oblasti SUX) Karpov Vladimir D. (ulitsa Kir, Dry film multilayer photoresist element.
  2. Franke Werner (Wiesbaden DEX) Seibel Markus (Mainz DEX), Light-sensitive layer transfer material.
  3. Namiki Tomizo (Asaka JPX) Shinozaki Fumiaki (Asaka JPX) Ikeda Tomoaki (Asaka JPX), Photosensitive image forming material and an image forming method using same.

이 특허를 인용한 특허 (7)

  1. Weng, Zhu-Sha; Zhu, Yong-Gang, Housing for electronic device and method for making the same.
  2. Palmer Alan K. (23344 - 46th Avenue ; Langley British Columbia CAX V3A 4R1), Mask for etching, and method of making mask and using same.
  3. Pentak William F. (Houston TX) Burkes Dewey L. (Pasadena TX), Method for creating a design in relief in a hard smooth substrate and apparatus for use in the method.
  4. Gybin,Alexander Sergeievich; Komatsu,Toshifumi, Polymer casting method and apparatus.
  5. Komatsu Toshifumi, Sandblast mask laminate with blastable pressure sensitive adhesive.
  6. Komatsu Toshifumi, Sandblasting process with blastable pressure sensitive adhesive.
  7. Van Thillo Etienne A. (Essen BEX) Daems Eddie R. (Herentals BEX) Leenders Luc H. (Herentals BEX) Smits Guido J. (Kapellen BEX), Stripping film material.
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