[특허]Wafer transforming device

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Wafer transforming device 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B25B-011/00
출원번호	US-0434397 (1982-10-14)
우선권정보	JP-0165772 (1981-10-19)
발명자 / 주소	Kenbo Yukio (Yokohama JPX) Akiyama Nobuyuki (Yokohama JPX) Koizumi Mitsuyoshi (Yokohama JPX) Kuni Asahiro (Tokyo JPX)
출원인 / 주소	Hitachi, Ltd. (Tokyo JPX 03)
인용정보	피인용 횟수 : 9 인용 특허 : 4

초록 ▼

A wafer transforming device defines an airtight space by means of a base, a hollow case, and a diaphragm type chuck which is fixed to the upper end of the case by suction. In this space, a large number of vertically moving elements are arranged at predetermined intervals. In the state in which a wafer is held by suction by means of the chuck and in which the chuck is held in contact with the upper ends of the vertically moving elements by supplying a vacuum pressure into the space, the vertically moving elements located within a required range are selectively actuated. Thus, the chuck is pushed up, and the wafer held on the chuck by the suction is transformed into a desired state.

대표청구항 ▼

A wafer transforming device wherein a wafer carried by vacuum sunction is transformed by pushing it up from a suction surface side thereof, the wafer transforming device comprising: a base, a hollow case supported by said base, a diaphragm type chuck supported at an upper end of said case and having an upper surface formed with a suction groove, a large number of vertically moving elements which are arranged at predetermined intervals in predetermined positions within an airtight space that is defined by said base, said case and said chuck, and drive means for selectively actuating the vertically moving elements.

이 특허에 인용된 특허 (4)

Gotman Alexander (Santa Monica CA), Apparatus for manipulating a stretched resilient diaphragm.
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Akiyama Nobuyuki (Yokohama JPX) Kembo Yukio (Yokohama JPX) Nakagawa Yasuo (Yokohama JPX) Aiuchi Susumu (Yokohama JPX) Nomoto Mineo (Yokohama JPX), Light exposure device and method.
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Novak Walter Thomas (San Jose CA), Method of positioning a semiconductor wafer for contact printing.
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Powell Walter W. (Peculiar MO) Seifert Gary A. (Lee\s Summit MO), Vacuum-type article holder and methods of supportively retaining articles.
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이 특허를 인용한 특허 (9)

Medico, Louis J., Chuck handling device.
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Tanaka Tsutomu (Yokohama JPX) Oshida Yoshitada (Fujisawa JPX) Shiba Masataka (Yokohama JPX) Nakashima Naoto (Kurita JPX) Funatsu Ryuichi (Yokohama JPX), Exposure method and apparatus.
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Govil, Pradeep Kumar; Ivaldi, Jorge, Flexible piezoelectric chuck and method of using the same.
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McKinley William G. ; Perron Gerard M. ; Tatian Berge, Lithography system and method with mask image enlargement.
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Green, Revvie A., Piezoelectric wafer clamping system.
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Anbe Mitsue (Yokohama JPX), Rotatable vacuum chuck with magnetic means.
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Akiyama Nobuyuki (Yokohama JPX) Kuni Asahiro (Tokyo JPX) Kembo Yukio (Yokohama JPX) Nakata Toshihiko (Yokohama JPX), Substrate surface deflecting device.
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Jelinek Vaclav (River Edge NJ), Suction table assembly.
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Cadee, Theodorus Petrus Maria; Zaal, Koen Jacobus Johannes Maria; Singh, Harmeet, Support, lithographic apparatus and device manufacturing method.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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