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Pattern generator 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B23K-027/00
출원번호 US-0327627 (1981-12-04)
우선권정보 JP-0177281 (1980-12-17)
발명자 / 주소
  • Hosaka Sumio (Hachioji JPX) Takanashi Akihiro (Kokubunji JPX) Kurosaki Toshiei (Tokyo JPX) Kuniyoshi Shinji (Tokyo JPX) Kawamura Yoshio (Tokyo JPX) Terasawa Tsuneo (Kokubunji JPX)
출원인 / 주소
  • Hitachi, Ltd. (Tokyo JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 12  인용 특허 : 5

초록

A pattern generator in which a workpiece to be machined into a desired pattern shape is held in vacuum and is irradiated with a laser beam condensed to be fine, while scanning the laser beam so as to depict the desired pattern shape, whereby the workpiece is directly machined in conformity with the

대표청구항

A pattern generator comprising a laser source, means to modulate a laser beam emitted from said laser source and to deflect it in a desired direction, means to focus the laser beam and to project it onto a workpiece to subject the workpiece to machining by the laser beam, a sample stage on which the

이 특허에 인용된 특허 (5)

  1. Lemelson Jerome H. (85 Rector St. Metuchen NJ 08840), Document recording method.
  2. Slivinsky Sandra H. (739 Joyce St. Livermore CA 94550) Ogle Norman E. (832 Bryant St. Palo Alto CA 94301), Laser skiving system.
  3. Isakov Viktor L. (ulitsa Fedorova ; 1 ; kv. 67 Kiev SUX) Popov Yan Y. (ulitsa Yakira ; 16/18 ; korpus 2 ; kv. 70 Kiev SUX) Vaisberg Tsaly I. (ulitsa Engelsa ; 7/10 ; kv. 24 Kiev SUX) Kharzhevsky Rost, Laser therapy apparatus.
  4. Hongo Mikio (Yokohama JPX) Nakabayashi Junichi (Yokohama JPX), Processing of photomask.
  5. Tan Swie-In (Bedford Hills NY), System for chip joining by short wavelength radiation.

이 특허를 인용한 특허 (12)

  1. Shamouilian Shamouil (Santa Clara CA) Ludwig Paul N. (Santa Clara CA), Apparatus and method for forming die sites in a high density electrical interconnecting structure.
  2. L\Esperance ; Jr. Francis A. (Englewood NJ), Apparatus for ophthalmological surgery.
  3. Tanimoto Akikazu (Kanagawa JPX) Motegi Kiyoshi (Kanagawa JPX) Komaru Yukako (Kanagawa JPX), Apparatus for removing a thin film layer.
  4. Ohnuma, Hideto; Tanaka, Nobuhiro; Adachi, Hiroki, Laser processing apparatus and laser processing process.
  5. Koide, Jun, Laser processing method, method for manufacturing ink jet recording head using such method of manufacture, and ink jet recording head manufactured by such method of manufacture.
  6. Vakanas, George; Chen, George; Greenzweig, Yuval; Li, Eric; Voronov, Sergei, Laser-assisted chemical singulation of a wafer.
  7. Yoshida, Akihisa; Kitagawa, Masatoshi; Uchida, Masao; Kitabatake, Makoto; Mitsuyu, Tsuneo, Method and apparatus for activating semiconductor impurities.
  8. LaPlante, Mark J.; Pinckney, David J., Method for fabrication of electromagnetic coil vanes.
  9. Arima Junichi (Itami JPX), Method of cutting metal interconnections in a semiconductor device.
  10. Aminzadeh, Mehran; Fahy, Michael R., Method of substrate processing and photoresist exposure.
  11. Sandstrom, Torbjorn, Multi-beam pattern generator.
  12. Lawton John A. (Landenberg PA), Solid imaging system.
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