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Waterless negative or positive lithographic printing plate preparation 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03F-007/08
  • G03F-007/10
  • G03F-007/00
출원번호 US-0396476 (1982-07-08)
우선권정보 JP-0107833 (1981-07-09)
발명자 / 주소
  • Sakurai Kiyomi (Neyagawa JPX) Arimatsu Seiji (Kyoto JPX)
출원인 / 주소
  • Nippon Paint Co., Ltd. (Osaka JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 14  인용 특허 : 4

초록

A photosensitive plate suitable for preparation of a waterless lithographic printing plate, which comprises a support material and a photosensitive layer provided thereon, said photosensitive layer being made of a photosensitive composition comprising an emulsion polymerization product of an acrylic

대표청구항

A method for preparing a waterless lithographic printing plate with a photosensitive printing plate comprising a support material and a photosensitive layer provided thereon, said photosensitive layer being made of a photosensitive composition comprising a mixture of (a) an emulsion polymerization p

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. Sanders James F. (Hudson WI), Light-sensitive development-free driographic printing plate.
  2. Okishi Yoshio (Shizuoka JPX) Koike Akinobu (Shizuoka JPX) Miyano Shizuo (Shizuoka JPX), Light-sensitive lithographic printing plate and compositions therefore with multiple resins.
  3. Muzyczko Thaddeus M. (Melrose Park IL) Thomas Daniel C. (Melrose Park IL), Photopolymerizable latex systems.
  4. Miyano Shizuo (Asaka JA) Kondo Asaji (Asaka JA) Kishimoto Shinzo (Asaka JA) Yazawa Kenichiro (Asaka JA), Pre-sensitized lithoprinting plate requiring no fountain solution.

이 특허를 인용한 특허 (14)

  1. Teng Gary Ganghui, Lithographic plate having a conformal radiation-sensitive layer on a rough substrate.
  2. Teng Gary Ganghui, Lithographic printing plates having a thin releasable interlayer overlying a rough substrate.
  3. Mller Werner H. (E. Greenwich RI) Schneller Arnold (Mainz DEX), Perfluoroalkyl group-containing copolymers.
  4. Feiring, Andrew E.; Schadt, III, Frank L., Photoresists, polymers and processes for microlithography.
  5. Feiring, Andrew Edward; Feldman, Jerald, Photoresists, polymers and processes for microlithography.
  6. Feiring,Andrew Edward; Feldman,Jerald, Photoresists, polymers and processes for microlithography.
  7. DoMinh Thap, Processless direct write printing plate having heat sensitive polymer and methods of imaging and printing.
  8. Kanda Kazunori (Yao JPX) Mizuguchi Ryuzo (Yawata JPX), Radiation curable liquid resin composition containing microparticles.
  9. French,Roger Harquail; Jones,David Joseph; Wheland,Robert Clayton, Radiation durable organic compounds with high transparency in the vacuum ultraviolet, and method for preparing.
  10. Chien James C. W. (15 Coach La. Amherst MA 01002), Self-developing radiation sensitive resist with amorphous polymer having haloalkyl substitution derived from cycic ether.
  11. Ebeling Olavi (Helsinki FIX), Waste screen.
  12. Bennett Peter Andrew Reath,GBX ; Smith Carole-Anne,GBX, Water-less lithographic plates.
  13. Reath Bennett Peter Andrew,GBX ; Smith Carole-Anne,GBX, Water-less lithographic plates.
  14. Bennett Peter Andrew Reath,GBX ; Smith Carole-Anne,GBX, Waterless lithographic plates.
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