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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0523196 (1983-07-19) |
국제출원번호 | PCT/US83/01116 |
§371/§102 date | 19830719 (19830719) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 5 |
A method is disclosed for making a more densified silicon nitride comprising object under less stringent heating conditions without sacrificing physical properties. A mixture of silicon powder, 6-18% yttrium silicon oxynitride (a major proportion of which is the Y10Si6O24N2 phase), 0.4-3% Al2O3, and
In a method of making a densified silicon nitride comprising object, wherein silicon powder is subjected to sequential heating including first a nitriding heating to form silicon nitride and second a heating to fuse the resulting silicon nitride, the improvement comprising having yttrium silicon oxy
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