[특허]Thin film resistor material and method

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	H01C-017/12
출원번호	US-0466234 (1983-02-14)
발명자 / 주소	Paulson Wayne M. (Paradise Valley AZ) Hughes David W. (Mesa AZ)
출원인 / 주소	Motorola, Inc. (Schaumburg IL 02)
인용정보	피인용 횟수 : 16 인용 특허 : 5

초록 ▼

Improved thin film resistors and electrical devices and circuits with thin film resistors are fabricated utilizing a chromium, silicon, and nitrogen compound formed preferably by rf reactive sputtering of chromium and silicon in a nitrogen bearing atmosphere. An annealing step is used to produce time-stable resistance values and in combination with variations in the partial pressure of nitrogen during sputter deposition to control the temperature coefficient of resistivity to have positive, negative or zero values.

대표청구항 ▼

A process for fabricating a thin film resistor material on a surface of a substrate, comprising: exposing said surface to one or more sources of Cr, Si, and nitrogen; forming on said surface a thin film comprising a compound of Cr, Si, and nitrogen derived from said sources; annealing said thin film

이 특허에 인용된 특허 (5)

Dorfeld ; William G., Low TCR resistor.
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Holmes Robert E. (Portland OR), Passivated thin-film hybrid circuits.
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Dorfeld William G. (Lindley NY) Settzo Robert J. (Painted Post NY), Resistor composition and method of manufacture thereof.
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Yamazaki Jun\ichiro (Kawasaki JA) Kamo Takeshi (Kawasaki JA) Saito Yoshiichi (Kawasaki JA), Thin film resistor and a method of producing the same.
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Holmes Robert E. (Portland OR), Thin-film microcircuits adapted for laser trimming.
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이 특허를 인용한 특허 (16)

Kazuo Kuroda JP; Hiroshi Takagi JP; Yoichi Osato JP; Noriaki Ohguri JP; Yoshimasa Okamura JP; Takao Kusaka JP, Charge-reducing film, image forming apparatus including said film and method of manufacturing said image forming apparatus.
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Yamaguchi, Takaaki; Imanaka, Yoshiyuki; Hatsui, Takuya; Takeuchi, Souta; Matsui, Takahiro; Kubo, Kousuke, Element substrate and printhead.
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Suzuki,Hiroyuki; Hayakawa,Yukihiro; Kawasaki,Yoshinori; Saito,Ichiro; Yokoyama,Sakai; Sakai,Toshiyasu, Heat generating resistant element film, substrate for ink jet head utilizing the same, ink jet head and ink jet apparatus.
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Tamai, Yukio; Otabe, Takuya, Manufacturing method for variable resistive element.
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Huang, Kegang; Huang, Judy H; Xu, Ping, Method and apparatus for treating low k dielectric layers to reduce diffusion.
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Ohkawa Makoto,JPX ; Iida Makio,JPX ; Suzuki Mikimasa,JPX, Method for fabricating semiconductor device having thin-film resistor.
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Chen Wood Mu-Yuan, Method for fabrication of thin film resistor.
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Chen Wood Mu-Yuan, Method for fabrication of thin film resistor.
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Tashiro, Kelvin; Sedo, John H.; Ng, Mario, Methods and apparatus for inspecting reactor pressure tubes.
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Huang, Judy, Plasma treatment to enhance adhesion and to minimize oxidation of carbon-containing layers.
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Huang,Judy, Plasma treatment to enhance adhesion and to minimize oxidation of carbon-containing layers.
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Bohara Robert C. (Eden Prairie MN) Ruf James A. (Maple Grove MN), Platinum resistance thermometer.
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Iida Makio,JPX ; Miura Shoji,JPX ; Terada Kanemitsu,JPX ; Ban Hiroyuki,JPX ; Yamamoto Kiyoshi,JPX ; Oda Katsuyoshi,JPX ; Isobe Yoshihiko,JPX, Semiconductor device having thin film resistor and method of producing same.
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Maghsoudnia Pirouz, SiCr thin film resistors having improved temperature coefficients of resistance and sheet resistance.
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Toyokura Nobuo (Kawasaki JPX) Ohnishi Toyokazu (Isehara JPX) Yokoyama Naoki (Atsugi JPX), Thin film resistor for an integrated circuit semiconductor device.
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Wu Fan ; McLaurin Allen W. ; Managhan Doug G. ; Henson Kirk, Thin film resistor for use in medical devices and method of making same.
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A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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