$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

[미국특허] Hollow cathode sputter etcher 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-015/00
출원번호 US-0587123 (1984-03-07)
우선권정보 AU-0008365 (1983-03-09)
발명자 / 주소
  • Horwitz Christopher M. (Summer Hill AUX)
출원인 / 주소
  • Unisearch Limited (Kensington AUX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 21  인용 특허 : 3

초록 ▼

There is disclosed a dry process etching or deposition chamber which allows an improvement in process speed and control of directionality over prior art dry process chambers. The etching or deposition chamber is provided with a hollow cathode electrode comprising two parallel electrode surfaces whic

대표청구항 ▼

A dry process etching or deposition chamber comprising: a vacuum chamber enclosing two radio frequency electrodes, one of which is formed as a hollow cathode a source of radio frequency potential connected between said pair of electrodes; inlet means for introducing a gas into the vacuum chamber, wh

이 특허에 인용된 특허 (3) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Horwitz Christopher M. (Room 13-3061 ; M.I.T. ; 77 Massachusetts Ave. Cambridge MA 02139), Graded microstructured layers formed by vacuum etching.
    상세보기
  2. Henshaw William F. (Street MD) White John R. (Darlington MD) Niiler Andrus (Bel Air MD), Hollow cathode discharge source of metal vapor.
    상세보기
  3. Horwitz Christopher M. (Summer Hill AUX), Selective etching of aluminum.
    상세보기

이 특허를 인용한 특허 (21) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Bardos Ladislav,SEX ; Barankova Hana,SEX, Apparatus for generation of a linear arc discharge for plasma processing.
    상세보기
  2. Kitch, Vassili, Fabrication of copper-containing region such as electrical interconnect.
    상세보기
  3. Kitch,Vassili, Fabrication technique using sputter etch and vacuum transfer.
    상세보기
  4. Yokogawa, Ken'etsu; Miyake, Masatoshi, Heat treatment apparatus that performs defect repair annealing.
    상세보기
  5. Mintz Donald M. ; Hanawa Hiroji ; Somekh Sasson ; Maydan Dan ; Collins Kenneth S., High frequency semiconductor wafer processing apparatus and method.
    상세보기
  6. Cuomo Jerome J. (Lake Lincolndale NY) Kaufman Harold R. (Fort Collins CO) Rossnagel Stephen M. (White Plains NY), Hollow cathode enhanced magnetron sputter device.
    상세보기
  7. Bumble Bruce (Croton-on-Hudson NY) Cuomo Jerome J. (Lake Lincolndale NY) Logan Joseph S. (Poughkeepsie NY) Rossnagel Steven M. (White Plains NY), Hollow cathode enhanced plasma for high rate reactive ion etching and deposition.
    상세보기
  8. Paul Stephen McLeod, Hollow cathode sputter source.
    상세보기
  9. Rust Ray D. (Berkeley Heights NJ), Hollow cathode type magnetron apparatus construction.
    상세보기
  10. Mikalesen Donald J. (Carmel NY) Rossnagel Stephen M. (White Plains NY), Large area cathode lift-off sputter deposition device.
    상세보기
  11. Jones Fletcher (Ossining NY) Logan Joseph S. (Poughkeepsie NY), Low contamination RF sputter deposition apparatus.
    상세보기
  12. Cuomo, Jerome J.; Williams, N. Mark; Hanser, Andrew David; Carlson, Eric Porter; Thomas, Darin Taze, MIIIN based materials and methods and apparatus for producing same.
    상세보기
  13. Bardos, Ladislav; Barankova, Hana, Magnetron plasma apparatus.
    상세보기
  14. Cuomo, Jerome J.; Williams, N. Mark; Hanser, Andrew David; Carlson, Eric Porter; Thomas, Darin Taze, Method and apparatus for producing MIIIN columns and MIIIN materials grown thereon.
    상세보기
  15. Rickerby David S,GBX, Method of applying a coating to a metallic article and an apparatus for applying a coating to a metallic article.
    상세보기
  16. Cuomo, Jerome J.; Williams, N. Mark, Non-thermionic sputter material transport device, methods of use, and materials produced thereby.
    상세보기
  17. Drage David J. (Sebastopol CA), Plasma Reactor with removable insert.
    상세보기
  18. Sato Masaaki (Kanagawa JPX) Arita Yoshinobu (Kanagawa JPX), Plasma etching apparatus.
    상세보기
  19. Donohoe, Kevin G., Plasma reactor.
    상세보기
  20. Collins Kenneth S. ; Roderick Craig A. ; Trow John R. ; Yang Chan-Lon ; Wong Jerry Yuen-Kui ; Marks Jeffrey ; Keswick Peter R. ; Groechel David W. ; Pinson ; II Jay D. ; Ishikawa Tetsuya,JPX ; Lei La, Process used in an RF coupled plasma reactor.
    상세보기
  21. Benzing David W. (San Jose CA), Troide plasma reactor with magnetic enhancement.
    상세보기

활용도 분석정보

상세보기
다운로드
내보내기

활용도 Top5 특허

해당 특허가 속한 카테고리에서 활용도가 높은 상위 5개 콘텐츠를 보여줍니다.
더보기 버튼을 클릭하시면 더 많은 관련자료를 살펴볼 수 있습니다.

관련 콘텐츠

저작권 관리 안내
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로