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Process and apparatus for mixing gases in a specific proportion and dosing the resultant gas mixture 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G05D-011/13
출원번호 US-0377464 (1982-05-12)
우선권정보 SE-0003025 (1981-05-14)
발명자 / 주소
  • Olsson Sven-Gunnar (Soedra Sandby SEX) Jonson Bjrn (Lund SEX) Neuman Hanna (Solna SEX)
출원인 / 주소
  • Siemens Aktiengesellschaft (Berlin & Munich DEX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 15  인용 특허 : 7

초록

A method of mixing a plurality of gases in a specified proportion and dosing the resultant gas mixture comprises supplying individually controlled gas streams from suitable sources thereof in a pulse-like fashion to an enclosed chamber from where the resultant gas mixture can be delivered to a point

대표청구항

In a method of mixing a plurality of gases in a specified proportion and dosing the resultant gas mixture to a point of use whereby individual gases are transmitted via separate lines having controllable valve means successive in pulse-like fashion to a common line and the pulse gas quanitites of th

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Farley Max F. (Marietta OH) Fine Laughton T. (Cincinnati OH), Apparatus and method for precision gas mixing.
  2. Heim Ulrich (Reinfeld DEX) Albarda Scato (Mlln DEX), Apparatus for the electrically controlled proportioning and mixing of gases.
  3. Clark Justin S. (720 E. 3120 South Salt Lake City UT 84106) Wallace Wm. Dean (408 Second Ave. Salt Lake City UT 84103), Method and apparatus for mixing gases.
  4. Clark Justin S. (720 E. 3120 South Salt Lake City UT 84106) Wallace Wm. Dean (408 Second Ave. Salt Lake City UT 84103), Method and apparatus for mixing gases.
  5. Herter ; deceased Martin (Romerfeldstr. 9 late of Pulheim-Geyen DEX) Herter ; heiress by Johanna (Romerfeldstr. 9 5024 Pulheim-Geyen DEX) Radtke ; heir by Ingrid (Schlehenweg 4 4047 Dormagen 1 (Delho, Process and device for the mixing of gases.
  6. Zdrodowski Joseph J. (Nutley NJ), Time division flow control.
  7. Zdrodowski Joseph John (Nutley NJ), Time division metering system.

이 특허를 인용한 특허 (15)

  1. Paul J. Mattia ; James L. Copeland ; Oliver Murphy, III ; Kaye Kit-han Yuen, Apparatus for dispensing incompatible chemicals to a common utilization point.
  2. Minami Yukio,JPX ; Ikeda Nobukazu,JPX ; Shrestha Manohar L.,JPX ; Kagatsume Satoshi,JPX, Backflow prevention apparatus for feeding a mixture of gases.
  3. Krebs, Christian, Controlled gas-supply system.
  4. Ouarve Vernon K. (Minneapolis MN) McCormick Dennis L. (Mendota Heights MN), Fluid dispensing device.
  5. Smaidris, Thomas F., Fluid flow management system and associated methods.
  6. Smaidris, Thomas F., Fluid flow management through a wastewater level manipulation system and associated methods.
  7. Smaidris, Thomas F., Fluid flow management through a wastewater level manipulation system and associated methods.
  8. Chen Chen-An ; Nakanishi Koji,JPX ; Chen Aihua, Gas mixing apparatus and method.
  9. Tiwet,John A.; Stone,Cary S.; Gorny,Richard A.; Chapples,John; Robins,Ian, Gas monitoring using electrochemical cell and method of operating.
  10. Chin Thomas G. (El Cerrito CA) Klaver Rudy F. (Albany CA) Alston Arthur (El Cerrito CA), Gas saturation monitoring system and method for controlling condensable fuel added to a gas.
  11. von Blumenthal, Tilman; Löser, Judith; Lorenzen, Ralf; Ludwig, Bernhard; Oelgarth, Frank, Gas-mixing device for respirators.
  12. Brady Daniel F. ; McCall ; Jr. John E. ; Mattia Paul J. ; Lavorata John M. ; PeKarna Matthew D. ; Stokes Robert David ; Bailey Clyde Arthur, Liquid chemical dilution and dosing system.
  13. Ruther Horst,ATX ; Raith Roland,ATX, Method and device for production of high-precision, continuous streams of mixed gas.
  14. Mark C. Easton, System for and method of monitoring the flow of semiconductor process gases from a gas delivery system.
  15. Smaidris, Thomas F., Wastewater collection flow management system and techniques.
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