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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0598927 (1984-04-10) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 13 인용 특허 : 5 |
Residual monomer may be removed from a polymeric emulsion by subjecting it to pressure and temperature conditions so that the ambient vapor pressure is less than the vapor pressure in the emulsion and concurrently and continuously during the treatment adding a free radical initiator.
A process of treating an aqueous emulsion of one or more monomers, at least 80 weight percent of which have been polymerized comprising subjecting said emulsion to temperature and pressure conditions at which the vapour pressure of water in the ambient environment is less than the vapour pressure of
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