[특허]Pattern forming method

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C23F-001/00 H01L-021/306 B44C-001/22 C03C-015/00
출원번호	US-0702217 (1985-02-15)
우선권정보	JP-0028793 (1984-02-20)
발명자 / 주소	Hirai Yutaka (Tokyo JPX) Tomida Yoshinori (Yokohama JPX) Matsuda Hiroshi (Yokohama JPX) Nishimura Yukuo (Sagamihara JPX)
출원인 / 주소	Canon Kabushiki Kaisha (Tokyo JPX 03)
인용정보	피인용 횟수 : 14 인용 특허 : 2

초록 ▼

A pattern of a monomolecular film or a monomolecular built-up film is formed on a base through the steps of providing a lift-off layer on a base on which a monomolecular film or a monomolecular built-up film is to be deposited, depositing the monomolecular film or the monomolecular built-up film on

대표청구항 ▼

A pattern forming method, wherein a pattern of a monomolecular film or a monomolecular built-up film is formed on a base through the steps of providing a lift-off layer on a base on which a monomolecular film or a monomolecular built-up film is to be deposited, depositing the monomolecular film or t

이 특허에 인용된 특허 (2)

Trumpp Hans-Joachim (Stuttgart DEX) Greschner Johann (Pliezhausen DEX), Method of making structures with dimensions in the sub-micrometer range.
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Hubsch ; Hubertus ; Convertini ; Ursula ; Dimigen ; Heinz ; Luthje ; Hol ger, Method of structuring thin layers.
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이 특허를 인용한 특허 (14)

Quick, Timothy A.; Marsh, Eugene P., Horizontally oriented and vertically stacked memory cells.
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Quick, Timothy A.; Marsh, Eugene P., Horizontally oriented and vertically stacked memory cells.
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Quick, Timothy A.; Marsh, Eugene P., Horizontally oriented and vertically stacked memory cells.
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Yen Yung-Chau (San Jose CA), Metallization technique for integrated circuit structures.
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Matsuno, Yoshinori; Ohtsuka, Kenichi; Yutani, Naoki; Kuroda, Kenichi; Watanabe, Hiroshi; Shikama, Shozo, Method for manufacturing silicon carbide semiconductor device.
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Chung, Henry Wei-Ming; Tsai, Shin-Yi; Liang, Ming-Chung, Method for reducing dimensions between patterns on a photoresist.
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Chung,Henry Wei Ming; Tsai,Shin Yi; Liang,Ming Chung, Method for reducing dimensions between patterns on a photoresist.
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Godfrey Robin E. (Welwyn GBX), Polymer-coated optical structures and methods of making and using the same.
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Chaug, Yi-Shung; Wang, Xiaojia; Kiluk, Sean; Tseng, Scott; Zang, HongMei; Liang, Rong-Chang, Process for forming a patterned thin film structure for in-mold decoration.
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Chaug,Yi Shung; Wang,Xiaojia; Kiluk,Sean; Tseng,Scott; Zang,Hongmei; Liang,Rong Chang, Process for forming a patterned thin film structure for in-mold decoration.
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Haubrich, Jeanne E.; Chaug, Yi-Shung; Wu, Zarng-Arh George; Liang, Rong-Chang; Wang, Xiaojia, Process for forming a patterned thin film structure on a substrate.
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Haubrich,Jeanne E.; Chaug,Yi Shung; Wu,Zarng Arh George; Liang,Rong Chang, Process for forming a patterned thin film structure on a substrate.
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Takamatsu Osamu,JPX ; Hatanaka Katsunori,JPX ; Takimoto Kiyoshi,JPX ; Kawada Haruki,JPX ; Eguchi Ken,JPX ; Morikawa Yuko,JPX ; Matsuda Hiroshi,JPX ; Takeda Toshihiko,JPX ; Yanagisawa Yoshihiro,JPX ; , Process for preparing an electrode substrate.
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Brabec, Christoph; Hauch, Jens, Roll to roll manufacturing of organic solar modules.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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