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Method of forming photopolymeric molding pattern

국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B29C-035/08
출원번호 US-0614053 (1984-05-25)
발명자 / 주소
  • Williams Ray D. (1519 Atlantic North Kansas City MO 64116)
인용정보 피인용 횟수 : 3  인용 특허 : 4

초록

A novel molding pattern and method of making the same comprises the use of first and second image negatives sequentially positioned on opposed sides of a light sensitive resinous mass. Ultraviolet light waves are sequentially passed through each negative for user-selectable time periods so as to sen

대표청구항

A method of making an impression pattern comprising the steps of: (a) providing a first image negative with said negative having an image area thereon allowing for passage of certain light waves therethrough; (b) positioning a resin sensitive to said certain light waves adjacent said first negative;

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. Breeden Arnold H. (Indianapolis IN), Chemical etching of record patterns and the like.
  2. Landsman Robert M. (Norwalk CT), Method for making a printing plate from a porous substrate.
  3. Sammis George L. (Mason City IA), Method for printing a color design on a release paper for heat transfer to a fabric material.
  4. Froehlig Guy M. (Glen Cove NY), Method for substantially instantaneous liquid molding of an article.

이 특허를 인용한 특허 (3)

  1. Kawasaki Masaki (Fukuoka JPX), Method for producing concrete products provided with inlaid patterns.
  2. Dale, Andrew Mark, Method of casting.
  3. DeGiovanni Joseph (Rawlings MD) Schroeder Richard B. (Wilmington DE), Process for casting tire tread impressions using a photopolymerizable composition as the casting material.
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