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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0712032 (1985-03-15) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 41 인용 특허 : 2 |
The present invention relates to a method of and apparatus for detecting the end point of plasma treatment. The method includes steps: selecting a plasma spectrum having a characteristic wavelength from the plasma spectrum occurring at the time of the plasma treatment reaction of a specimen; computi
A method of detecting the end point of plasma treatment comprising a step of selecting plasma spectrum having a characteristic wavelength from the plasma spectrum occurring at the time of reaction of the plasma treatment of a specimen, a step of computing a secondary differential value of a function
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