최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0639988 (1984-08-13) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 52 인용 특허 : 9 |
Disclosed is a method of fabricating a multichip interposer comprising an insulating support with thin film fine line metallization on one side thereof. A layer of masking material is adhered to in other side and selective areas of the masking material are removed in a desired pattern to expose area
A method of fabricating an interposer for connecting a plurality of semiconductor chips to a substrate, comprising, in sequence, the steps of: providing an insulating support having a thin film fine line metallization formed on its top surface before the top surface is interrupted by holes interferi
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.