[특허]Magnetron plasma reactor

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[미국특허] Magnetron plasma reactor 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C23F-001/02 B44C-001/22 C03C-015/00 H01L-021/306
출원번호	US-0768547 (1985-08-23)
발명자 / 주소	Spencer John E. (Plano TX) Carter Duane (Plano TX) Autery Dave (Richardson TX)
출원인 / 주소	Texas Instruments Incorporated (Dallas TX 02)
인용정보	피인용 횟수 : 6 인용 특허 : 4

초록

A magnetron plasma reactor wherein the susceptor is an aluminum arm extending into approximately the middle of a solenoidal magnetic field generated by a dc current.

대표청구항 ▼

A plasma reactor comprising: a vacuum chamber; means for supplying predetermined gases at a predetermined pressure to said vacuum chamber; a solenoidal coil defining a space therein; means for supplying current to said coil; a susceptor intruding into the space defined by said coil, and capable of s

이 특허에 인용된 특허 (4) 인용/피인용 타임라인 분석

Class Walter H. (Yonkers NY) Hurwitt Steven D. (Park Ridge NJ) Hill Michael L. (New York NY) Hutt Marvin K. (Oakland NJ), Magnetically enhanced plasma process and apparatus.
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Mantei Thomas D. (Cincinnati OH), Method and apparatus for plasma etching a substrate.
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Class Walter H. (Yonkers NY) Hurwitt Steven D. (Park Ridge NJ) I Lin (Piermont NY), Shaped field magnetron electrode.
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Benzing David W. (San Jose CA), Troide plasma reactor with magnetic enhancement.
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이 특허를 인용한 특허 (6) 인용/피인용 타임라인 분석

Wong Jerry Yuen Kui ; Wang David Nin-Kou ; Chang Mei ; Mak Alfred W. ; Maydan Dan, Bomine and iodine etch process for silicon and silicides.
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Wong Jerry Yuen-Kui ; Wang David Nin-Kou ; Chang Mei ; Mak Alfred W. S. ; Maydan Dan, Bromine and iodine etch process for silicon and silicides.
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Dornfest Charles N. ; White John M. ; Bercaw Craig A. ; Tomosawa Hiroyuki Steven ; Fodor Mark A., Ceramic protection for heated metal surfaces of plasma processing chamber exposed to chemically aggressive gaseous envi.
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Dornfest Charles N. (Fremont CA) White John M. (Hayward CA) Bercaw Craig A. (Sunnyvale CA) Tomosawa Hiroyuki Steven (San Jose CA) Fodor Mark A. (Los Gatos CA), Ceramic protection for heated metal surfaces of plasma processing chamber exposed to chemically aggressive gaseous envir.
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Akiyama Takao,JPX, Method for etching inside of tungsten CVD reaction room.
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Tobin Jeffrey A. ; Benzing Jeffrey C. ; Broadbent Eliot K. ; Rough J. Kirkwood H., Plasma process apparatus for integrated circuit fabrication having dome-shaped induction coil.
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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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