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[미국특허] Insulating glass body with electrical feedthroughs and method of preparation 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H05K-003/42
출원번호 US-0870060 (1986-06-03)
발명자 / 주소
  • Anthony Thomas R. (Schenectady NY)
출원인 / 주소
  • General Electric Company (Schenectady NY 02)
인용정보 피인용 횟수 : 24  인용 특허 : 3

초록

A glass wafer having high aspect ratio holes passing therethrough is provided with metal conductors in the holes as feedthroughs. First, the wafer is processed to line the holes with a thin electron-conducting layer of metal. Next, a layer of the same or different metal is applied over the first met

대표청구항

A process for constructing a device of electrically insulative glass having at least one high aspect ratio electrically conductive path extending therethrough, said process comprising the steps of: a. etching longitudinally extending channels into the opposing surfaces of a plurality of thin plates

이 특허에 인용된 특허 (3) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Pellegrino Peter P. (216 Edgewood La. Apple Valley MN 55124), Method for mass producing printed circuit boards.
  2. Chan Uck I. (West Bloomfield MI), Method of drilling ultrafine channels through glass.
  3. Anthony Thomas R. (Schenectady NY), Reverse laser drilling.

이 특허를 인용한 특허 (24) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Hathaway James A. ; Brunone David J. ; Reyes Michelle M., Advanced RF electronics package.
  2. Hanson David A., Electrical means for extracting layer to layer registration.
  3. Fischer Paul J. ; Korleski Joseph, Electronic chip package.
  4. Fischer, Paul J.; Korleski, Joseph E., Electronic chip package.
  5. Mitoff Stephan P. (Clifton Park NY) Charles Richard J. (Schenectady NY) Pasco Wayne D. (Scotia NY), Hermetic feedthrough in ceramic substrate.
  6. Merritt,Charles; Justus,Brian, High aspect ratio microelectrode arrays.
  7. Noddin David B., Laser apparatus having improved via processing rate.
  8. Swenson Edward J. ; Sun Yunlong ; Harris Richard S., Laser based method and system for integrated circuit repair or reconfiguration.
  9. Hanson David A., Method for reducing via inductance in an electronic assembly and article.
  10. Noddin David B. ; Hutchins Donald G., Method for using fiducial schemes to increase nominal registration during manufacture of laminated circuit.
  11. Noddin David B., Method for using photoabsorptive coatings and consumable copper to control exit via redeposit as well as diameter variance.
  12. Noddin David B. ; Gorrell Robin E. ; Leaf Michael R., Method for using ultrasonic treatment in combination with UV-lasers to enable plating of high aspect ratio micro-vias.
  13. Tada Tetsuo (Hyogo JPX) Takagi Ryouichi (Hyogo JPX), Method of manufacturing a probing card for wafer testing.
  14. Yamaoka Toshihide (Akishima JPX), Method of manufacturing ion current recording head.
  15. Hathaway James A. ; Brunone David J. ; Reyes Michelle M., Method of producing an advanced RF electronic package.
  16. Noddin David B., Method of sequential laser processing to efficiently manufacture modules requiring large volumetric density material rem.
  17. Noddin David B., Method to correct astigmatism of fourth yag to enable formation of sub 25 micron micro-vias using masking techniques.
  18. Belopolsky,Yakov, Methods for mounting surface-mounted electrical components.
  19. Noddin David B., Multiple frequency processing to minimize manufacturing variability of high aspect ratio micro through-vias.
  20. Noddin David B., Multiple frequency processing to minimize manufacturing variability of high aspect ratio micro through-vias.
  21. Noddin David B., Multiple frequency processing to minimize manufacturing variability of high aspect ratio micro through-vias.
  22. Tonucci Ronald J. ; Nguyen Paul P., Nanopost arrays and process for making same.
  23. Noddin David B., Semiconductor flip chip package.
  24. Belopolsky, Yakov, Surface mounted electrical components and method for mounting and retaining same.

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