[특허]Low particulate vacuum chamber input/output valve

[미국특허] Low particulate vacuum chamber input/output valve 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	H01L-021/306 B44C-001/22 C03C-015/00 C23F-001/02
출원번호	US-0663908 (1984-10-22)
발명자 / 주소	Johnson Randall E. (Carrollton TX) Peters Louis E. (Dallas TX) Simmons Lowell E. (Garland TX)
출원인 / 주소	Texas Instruments Incorporated (Dallas TX 02)
인용정보	피인용 횟수 : 13 인용 특허 : 5

초록 ▼

A low particulate vacuum chamber semiconductor wafer input/output valve minimizes the particulate generation by taking advantage of a camming motion at the instant of closing to insure that the valve closes normal to the reaction chamber wall. This eliminates any friction between a glandular seal in the vacuum chamber wall. As the valve closes, it strikes a stop which causes a 90 degree change in direction of the valve forcing it into tape cut. This change of direction is accomplished through a combination of an upper motion of a backing plate, and a spring-loaded linkage in stock. As the gate closes there is some particulte generated at the interface of the valve plate and the stop. This is handled by placing the area of contact outside the transportation path for the semiconductor wafer.

대표청구항 ▼

An apparatus for the manufacturing of semiconductor devices from semiconductor wafers having a plurality of semiconductor circuit patterns on at least a reacting surface of the semiconductor wafer, the apparatus comprises: reacting means for providing a stream of reacting gases to react with the semiconductor wafer to create circuit elements according to the semiconductor circuit pattern thereby; handling means for handling the wafers and includes a chamber means for bringing the wafers into contact with the reacting gas, degassing means for degassing of the semiconductor wafers, port means for preventing the contamination of the chamber means and to provide a port for the transfer of the semiconductor wafers from the degassing means to the chamber means; port means for isolating the semiconductor wafers and the circuit elements from the chamber means, second port means for providing a port for the transfer of the semiconductor wafer between the chamber means and the port means, and transfer means for transferring the semiconductor wafer from the degassing means to the chamber means and from the chamber means to the port means; and wherein the transfer means includes; a reacting opening into the chamber means, and a valve for opening and closing of the opening into the chamber means; means for controlling the operation of the apparatus.

이 특허에 인용된 특허 (5) 인용/피인용 타임라인 분석

Hijikata Isamu (Tokyo JPX) Uehara Akira (Yokohama JPX) Nakane Hisashi (Kawasaki JPX), Apparatus for the treatment of semiconductor wafers by plasma reaction.
상세보기
Hajj John G. (Amesbury MA), Automatically loadable multifaceted electrode with load lock mechanism.
상세보기
Davies John T. (El Sobrante CA) Reichelderfer Richard F. (Castro Valley CA), Computer controlled system for processing semiconductor wafers.
상세보기
Kohman Wayne E. (Wilton CT) Maleri Joseph E. (Bridgeport CT), Load-lock vacuum chamber.
상세보기
Class Walter H. (Yonkers NY) Hurwitt Steven D. (Park Ridge NJ) Hill Michael L. (New York NY) Hutt Marvin K. (Oakland NJ), Magnetically enhanced plasma process and apparatus.
상세보기

이 특허를 인용한 특허 (13) 인용/피인용 타임라인 분석

Hosokawa Akihiro ; Demaray Richard Ernest ; Inagawa Makoto ; Mullapudi Ravi ; Halsey Harlan L. ; Starr Michael T., Automated substrate processing systems and methods.
상세보기
French ; Jr. Norman L., Circuit and apparatus for verifying a chamber seal, and method of depositing a material onto a substrate using the same.
상세보기
Norman L. French, Jr., Circuit and apparatus for verifying a chamber seal, and method of depositing a material onto a substrate using the same.
상세보기
Komoto, Shinji; Nozawa, Toshihisa, Gate valve and semiconductor manufacturing apparatus.
상세보기
Yokogawa, Ken'etsu; Miyake, Masatoshi, Heat treatment apparatus that performs defect repair annealing.
상세보기
Kobayashi, Yoshiaki, Method of manufacturing a semiconductor integrated circuit device including elimination of static charge of a treated wafer.
상세보기
Kobayashi,Yoshiaki, Method of manufacturing a semiconductor integrated circuit device with elimination of static charge.
상세보기
Brown Karl, Monitoring of wafer presence and position in semiconductor processing operations.
상세보기
Azumano Hidehito,JPX ; Kinase Atsushi,JPX ; Kogure Kimio,JPX ; Komatsu Hisataka,JPX, Robot apparatus and treating apparatus.
상세보기
Jeon Jae-sun,KRX ; Kim Won-yeong,KRX ; Yang Yun-mo,KRX ; Chae Seung-ki,KRX, Semiconductor device manufacturing apparatus employing vacuum system.
상세보기
Kobayashi,Yoshiaki, Semiconductor integrated circuit device manufacturing method including static charge elimination.
상세보기
Tezuka,Kazuyuki; Koizumi,Hiroshi; Moriya,Tsuyoshi; Nakayama,Hiroyuki, Substrate processing apparatus and substrate transferring method.
상세보기
Freerks Frederik W. ; Berken Lloyd M. ; Crithfield M. Uenia ; Schott David ; Rice Michael ; Holtzman Michael,ILX ; Reams William ; Giljum Richard ; Reinke Lance ; Booth John S., Wafer position error detection and correction system.
상세보기

활용도 분석정보

상세보기

다운로드

내보내기

활용도 Top5 특허

해당 특허가 속한 카테고리에서 활용도가 높은 상위 5개 콘텐츠를 보여줍니다.
더보기 버튼을 클릭하시면 더 많은 관련자료를 살펴볼 수 있습니다.

IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
저장형식	Text(ASCII format) Excel format PIAS분석(.xls)
메일정보	받는사람 (필수) @ 보내는사람 (선택) @ 제목 내용 KISTI 검색결과 이메일 서비스
안내	총 건의 자료가 검색되었습니다. 다운받으실 자료의 인덱스를 입력하세요. (1-10,000) 검색결과의 순서대로 최대 10,000건 까지 다운로드가 가능합니다. 데이타가 많을 경우 속도가 느려질 수 있습니다.(최대 2~3분 소요) 다운로드 파일은 UTF-8 형태로 저장됩니다. 파일의 내용이 제대로 보이지 않을실 때는 웹브라우저 상단의 보기 -> 인코딩 -> 자동선택 여부를 확인하십시오. ~ Text(ASCII format) Excel format

연합인증

[미국특허] Low particulate vacuum chamber input/output valve 원문보기

초록 ▼

대표청구항 ▼

연구과제 타임라인

이 특허에 인용된 특허 (5) 인용/피인용 타임라인 분석

이 특허를 인용한 특허 (13) 인용/피인용 타임라인 분석

활용도 분석정보

활용도 Top5 특허

관련 콘텐츠

특허 원문 보기

IPC 상위 출원인

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

선택된 텍스트

연합인증

[미국특허] Low particulate vacuum chamber input/output valve 원문보기

초록 ▼

대표청구항 ▼

연구과제 타임라인

전체(0) 논문(0) 특허(0) 보고서(0)

전체(0) 논문(0) 특허(0) 보고서(0)

이 특허에 인용된 특허 (5) 인용/피인용 타임라인 분석

이 특허를 인용한 특허 (13) 인용/피인용 타임라인 분석

활용도 분석정보

활용도 Top5 특허 더보기

관련 콘텐츠

특허 원문 보기

IPC 상위 출원인

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

선택된 텍스트

활용도 Top5 특허