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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0520041 (1983-08-03) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 21 인용 특허 : 8 |
An optical system for determining and reproducing spatial separation of features in the range of 80Åto 2500Åfor optical microscopy and lithography using visible light, the system being independent of the wavelength of the incident light. An aperture mask is provided having at least one aperture of b
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