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[미국특허] Microlithographic reticle positioning system 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01B-005/00
출원번호 US-0802734 (1985-11-29)
발명자 / 주소
  • Barsky Samuel M. (Wakefield MA)
출원인 / 주소
  • GCA Corporation (Andover MA 02)
인용정보 피인용 횟수 : 27  인용 특허 : 4

초록 ▼

In the reticle positioning system disclosed herein, a unitary structure is machined to form both a frame for holding a reticle and a compound linkage permitting lateral and rotational movement of the frame within its own plane under the control of three servo motors generating controllable displacem

대표청구항 ▼

A flexure mount for a planar microlithographic reticle permitting lateral and rotational movement of the reticle within its own plane while resisting other movements, said mount comprising: a rigid rectangular frame for holding a reticle; adjacent a central portion of each of one pair of opposite si

이 특허에 인용된 특허 (4) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Scire, Fredric E.; Teague, E. Clayton, Flexure hinge.
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  2. Taniguchi Motoya (Yokohama JPX) Ikeda Minoru (Yokohama JPX) Komeyama Yoshihiro (Yokohama JPX), Precision parallel translation system.
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  3. Moriyama Shigeo (Hachioji JPX), Ultra-precision two-dimensional moving apparatus.
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  4. Key ; Jr. Robert T. (Phoenix AZ), X-Y Movable work holder.
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이 특허를 인용한 특허 (27) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Gweon,Dae Gab; Kim,Dong Min; Shim,Jong Yeop; Kim,Ki Hyun, 3-axis straight-line motion stage and sample test device using the same.
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  2. Nomura Takehiko (Yokohama JPX) Suzuki Ryoichi (Yokohama JPX), Alignment stage device.
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  3. Nesch,Ivan N.; Morrison,Timothy I., Apparatus and method for precise angular positioning.
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  4. Lenox,Richard J., Apparatus for kinematic registration of a reticle.
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  5. Awtar, Shorya; Slocum, Alexander H., Apparatus having motion with pre-determined degrees of freedom.
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  6. Juri F. Jourtchenko RU; Vladimir K. Belyakov RU, Device, in particular a work table for a projector.
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  7. Shirai Takashi,JPX ; Murayama Ken,JPX ; Morimoto Takafumi,JPX ; Kuroda Hiroshi,JPX ; Onozato Harumasa,JPX, Fine movement mechanism unit and scanning probe microscope.
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  8. Nagasawa Kiyoshi (Ibaragi JPX) Ono Kozo (Toride JPX) Ogata Kojiro (Ishioka JPX) Murayama Ken (Ibaragi JPX) Hoshino Yoshihiro (Tsuchiura JPX), Fine positioning device.
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  9. Nagasawa Kiyoshi (Ibaragi JPX) Ono Kozo (Toride JPX) Ogata Kojiro (Ishioka JPX) Murayama Ken (Chiyoda JPX) Hoshino Yoshihiro (Tsuchiura JPX), Fine positioning device and displacement controller therefor.
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  10. Vangal-Ramamurthy, Jambunathan; Vasudevan, Rahool, Flexure based compliance device for use with an assembly device.
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  11. Kosmowski, Mark T., Flexure guide bearing for short stroke stage.
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  12. Xu,Ying, Heavy-load nanopositioner with dual-parallel flexure design.
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  13. Lenox, Richard J., Method and apparatus for kinematic registration of a reticle.
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  14. Stefano Bottinelli CH; Simon Henein CH; Cedric Aymon CH; Reymond Clavel CH, Movement transmission unit and movement transmission apparatus employing the same.
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  15. Dhese, Keith; Ristea, Alin, Parallellism conservation mechanism for nanopositioner.
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  16. Edward G. Amatucci ; Nicholas G. Dagalakis ; Jason Marcinkoski ; Frederic E. Scire ; John A. Kramar, Positioning stage.
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  17. Fleming, Andrew, Positioning system and method.
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  18. Walker, Gary R.; Hookman, Robert A., Precision frictionless flexure based linear translation mechanism insensitive to thermal and vibrational environments.
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  19. Laganza Joseph L. (East Norwalk CT) Engelbrecht Orest (Ridgefield CT), Reticle frame assembly.
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  20. Sogard Michael R. (Menlo Park CA), Scanner for step and scan lithography system.
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  21. Uziel, Yoram; Sender, Benzion; Aspir, Doron; Madmon, Yohanan; Naftali, Ron; Belenky, Yuri, Scanning an object using multiple mechanical stages.
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  22. Lee,Suk won; Ahn,Byung il; Kang,Dong woo; Kim,Ki hyun; Gweon,Dae gab; Kim,Dong min, Stage apparatus.
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  23. Ohtsuka Masaru (Yokohama JPX), Stage mechanism.
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  24. Yang, Zhijun; Bai, Youdun; Chen, Xin; Gao, Jian; Yang, Haidong; Wang, Meng; Tang, Hui, Stiffness-frequency adjustable XY micromotion stage based on stress stiffening.
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  25. Phillips, Alton Hugh; Watson, Douglas Chandler, Three degree of freedom joint.
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  26. Johanson Lars (72 Hillsdale Rd. Cedar Grove NJ 07009), Workpiece holding system.
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  27. Kaneko, Makoto; Morita, Hiroshi; Nakamori, Yasuhito; Sugimine, Masanobu; Tomita, Yoshiyuki, X-Y stage apparatus.
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