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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0918585 (1986-10-09) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 5 인용 특허 : 2 |
A process for fabricating layered semiconductor structures, particularly thin gallium arsenide solar cells, on reusable substrates. The structure is fabricated by depositing a selectively removable layer such as gallium aluminum arsenide onto a substrate, and then depositing a solar cell basic struc
A solar cell, comprising: a layer of p-type gallium arsenide haviang a thickness of not greater than about 0.5 micrometers; a layer of n-type gallium arsenide, said layer of p-type gallium arsenide and the layer of n-type gallium arsenide together constituting an active semiconductor solar cell; a g
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