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Apparatus for sputter coating discs 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-014/34
출원번호 US-0825210 (1986-02-03)
발명자 / 주소
  • Beardow Terence (Endenfield GB2)
출원인 / 주소
  • BVT Limited (Manchester GB2 03)
인용정보 피인용 횟수 : 19  인용 특허 : 7

초록

Apparatus for sputter coating a disc comprises an evacuable chamber with a disc entry and exit opening. A disc to be coated is supported at the center of the disc by support means and drive means move the support means along a disc path between a disc loading position outside the chamber and a disc

대표청구항

Apparatus for sputter coating a substrate in the form of a disc, comprising an evacuable chamber having a disc entry and an exit opening, support means for supporting said disc at the center thereof, drive means for driving said support means to move said disc along a disc path between a disc loadin

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Mahler Peter (Hainburg DEX), Cathode sputtering apparatus with adjacently arranged stations.
  2. Boys Donald R. (Cupertino CA) Graves Walter E. (San Jose CA), Disk or wafer handling and coating system.
  3. McKelvey Harold E. (Plymouth MI), Magnetron cathode sputtering apparatus.
  4. McKelvey Harold E. (Plymouth MI), Magnetron cathode sputtering apparatus.
  5. Shirahata Ryuji (Odawara JPX) Kitamoto Tatsuji (Odawara JPX) Yamada Yasuyuki (Odawara JPX) Akashi Goro (Odawara JPX), Method of producing magnetic recording medium.
  6. Graves, Jr., Walter E., Substrate and substrate holder.
  7. Cameron George (Birmingham MI), Transfer machine.

이 특허를 인용한 특허 (19)

  1. Nering Eric A., Apparatus and method for automated cassette handling.
  2. Hollars Dennis R. (Los Gatos CA) Waltrip Delbert F. (San Jose CA) Zubeck Robert B. (Los Altos CA) Bonigut Josef (Alamo CA) Smith Robert M. (Antioch CA) Payne Gary L. (Sunnyvale CA) Lee Kenneth (Sarat, Apparatus and method for high throughput sputtering.
  3. Denton Peter R. (Cherry Hill NJ) Boyarsky David (Cherry Hill NJ), Apparatus for coating compact disks.
  4. Helms Dirk (Ahrensburg DEX) Katzschner Werner (Berlin DEX) Pawlakowitsch Anton (Alzenau DEX) Anderle Friedrich (Hanau DEX), Apparatus for mounting workpieces.
  5. Kemmerer Guenther (Alzenau DEX) Wolf Hans (Erlensee DEX), Apparatus for the production of coatings with a uniform thickness profile by cathode sputtering.
  6. Kirkpatrick Thomas I. ; Otwell Robert L., Cost effective modular-linear wafer processing.
  7. Kirkpatrick Thomas I. ; Otwell Robert L., Cost effective modular-linear wafer processing.
  8. Hertel, Richard J.; Allen, Jr., Ernest E.; McGrail, Jr., Philip J., Dual sided workpiece handling.
  9. Hertel, Richard J.; Allen, Jr., Ernest E.; McGrail, Jr., Philip J., Dual sided workpiece handling.
  10. Ken Lee ; Ke Ling Lee ; Mingwei Jiang ; Robert M. Martinson, Horizontal sputtering system.
  11. Yang, Yun-Sik; Kim, Jin-Man; Min, Young-Min; Jo, Chang-Hyun, Input/output valve switching apparatus of semiconductor manufacturing system.
  12. Chen, Jinliang; Nippa, Kinya, Magnetic particle trapper for a disk sputtering system.
  13. Washburn Hudson A. ; Hamilton Jarrett L., Modular deposition system having batch processing and serial thin film deposition.
  14. Washburn Hudson A. ; Hamilton Jarrett L., Modular deposition system having batch processing and serial thin film deposition.
  15. Mahler Peter (Hainburg DEX), Modular vacuum system for the treatment of disk-shaped workpieces.
  16. Hutchinson Martin A. (Santa Clara CA), Sputter module for modular wafer processing machine.
  17. Lee Ke Ling ; Mazur Mikhail ; Lee Ken ; Martinson Robert M., System and method for handling and masking a substrate in a sputter deposition system.
  18. Ke Ling Lee ; Mikhail Mazur ; Ken Lee ; Robert M. Martinson, System and method for transporting and sputter coating a substrate in a sputter deposition system.
  19. Yasar Tugrul ; Robison Rodney Lee ; Deyo Daniel ; Zielinski Marian, Transport system for wafer processing line.
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