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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0872721 (1986-06-10) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 37 인용 특허 : 0 |
The invention relates to a process for depositing I-125 on a substrate which comprises contacting a predetermined surface area of substrate with Xe-125 gas, whereby the Xe-125 decays to I-125 and the I-125 in turn deposits as a solid on the surface of the substrate, the contact being for a time suff
A process for depositing I-125 on a substrate, which comprises (a) suspending a substrate of predetermined surface area in a pressure vessel, (b) contacting the substrate with Xe-125 gas, whereby Xe-125 decays to I-125 gas, and (c) depositing at least about 1 microcurie of I-125 gas as a solid on th
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