[특허]Apparatus for coating substrate devices

Apparatus for coating substrate devices 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C23C-016/00
출원번호	US-0913714 (1986-09-30)
발명자 / 주소	Boyarsky David (Cherry Hill NJ) Vaughan Robert T. (Cheltenham PA)
출원인 / 주소	Denton Vacuum, Inc. (Cherry Hill NJ 02)
인용정보	피인용 횟수 : 24 인용 특허 : 0

초록 ▼

The present apparatus has a movable table with apertures therein. In each aperture there is loaded a carrier device and each carrier holds a substrate to be coated. The carriers are advanced in a step-like fashion to a loading position under a vertical hollow cylinder. When a carrier is in the loading position, a piston is moved upward, passing through the aperture, pushing the carrier into the hollow cylinder. Each carrier has an O-ring on its periphery and the O-ring is squeezed against the cylinder wall to form a seal. Each carrier pushes against the one above it to advance a column of carriers upward in the hollow cylinder. In this way, the carriers, and the substrates they hold, pass through the hollow cylinder. Along the cylinder there are vacuum stations which act to pump down and degas the substrates. The degassed substrates eventually emerge from the upper end of the cylinder into a vacuum chamber, whereat they are coated by sputtering, or the like. The vacuum level in the coating chamber is not as low as the vacuum level at the vacuum stations along the cylinder. Accordingly, gasses in the coating chamber tend to try to escape into the vertical cylinder but are stopped by the O-ring seals on the carriers. Hence the coating chamber is not contaminated. The substrates are transmitted through the coating chamber, coated, and withdrawn therefrom through a second hollow cylinder.

대표청구항 ▼

An arrangement for coating substrates which are held by individual carrier means and which carrier means are continuously step moved into and out of a coating chamber, comprising in combination: sealing devices respectively fitting on associated ones of said carrier means; first vertical elongated cavity means having first and second ends and having sidewall means and having apertures in at least one section of said sidewall means, said first vertical elongated cavity means designed to have said carrier means with said sealing devices fit therein to provide a substantial seal to prevent gasses from passing between said carriers and said sidewall means; means for loading said carrier means designed and disposed to move said carrier means into said first vertical elongated cavity means whereby a train of said carrier means is moved through said first vertical elongated cavity means; vacuum pump means disposed to be in close proximity to said at least one section of said first elongated cavity means to create a vacuum in said at least one section to thereby degas substrates held by said carrier means located in said at least one section; transport means designed and disposed to move said carrier means which have passed through said first elongated cavity means; and vacuum chamber coating means designed to house said transport means, said vacuum chamber coating means further designed to house means to materially coat said substrates, said means to materially coat disposed with respect to said transport means to materially coat said substrates which are being moved by said transport means; and means to remove said carrier means from said transport means and from said vacuum chamber coating means.

이 특허를 인용한 특허 (24)

Denton Peter R. (Cherry Hill NJ) Boyarsky David (Cherry Hill NJ), Apparatus for coating compact disks.
상세보기
Anderle Friedrich (Hanau am Main DEX) Costescu Dan L. (Hainburg DEX) Kempf Stefan (Alzenau DEX) Novak Emmerich (Obertshausen DEX) Zejda Jaroslav (Rodenbach DEX), Apparatus on the carousel principle for coating substrates.
상세보기
Rinnen Klaus-Dieter ; Czarnik Cory, Computer-implemented inter-chamber synchronization in a multiple chamber substrate processing system.
상세보기
Avi Tepman ; Donald J. K. Olgado ; Allen L. D'Ambra, Dual buffer chamber cluster tool for semiconductor wafer processing.
상세보기
Kraus, Joseph Arthur; Strassner, James David, Dual wafer load lock.
상세보기
Landau Richard F. (Londonderry NH) Millikin Jr. William E. (Acton MA) Puchacz Jerzy P. (Nashua NH) Reyes Manolito Q. (Nashua NH) Schadler Walter (Triesen LIX), High vacuum processing system and method.
상세보기
Ken Lee ; Ke Ling Lee ; Mingwei Jiang ; Robert M. Martinson, Horizontal sputtering system.
상세보기
Ding, Peijun; Xu, Zheng; Zhang, Hong; Tang, Xianmin; Gopalraja, Praburam; Rengarajan, Suraj; Forster, John C.; Fu, Jianming; Chiang, Tony; Yao, Gongda; Chen, Fusen E.; Chin, Barry L.; Kohara, Gene Y., Metal / metal nitride barrier layer for semiconductor device applications.
상세보기
Canady Mickey Lynn (Rochester MN) Edmonson David Alvoid (Rochester MN) Johnson Gary James (Rochester MN) Teig Paul David (Byron MN) Wall Arthur Carl (Rochester MN), Method and apparatus for coating thin film data storage disks.
상세보기
Chiang, Tony; Yao, Gongda; Ding, Peijun; Chen, Fusen E.; Chin, Barry L.; Kohara, Gene Y.; Xu, Zheng; Zhang, Hong, Method for depositing a diffusion barrier layer and a metal conductive layer.
상세보기
Ding,Peijun; Xu,Zheng; Zhang,Hong; Tang,Xianmin; Gopalraja,Praburam; Rengarajan,Suraj; Forster,John C.; Fu,Jianming; Chiang,Tony; Yao,Gongda; Chen,Fusen E.; Chin,Barry L.; Kohara,Gene Y., Method of depositing a tantalum nitride/tantalum diffusion barrier layer system.
상세보기
Jaim Nulman, Methods and apparatus for forming and maintaining high vacuum environments.
상세보기
Bright Nick ; Mooring Ben, Modular architecture for semiconductor wafer fabrication equipment.
상세보기
Tepman Avi, Monolith processing system platform.
상세보기
Todd Craig B. ; Yu James E., Process chamber lid.
상세보기
Boitnott Charles A. (Half Moon Bay CA) Caughran James W. (Lodi CA) Egbert Steve (Palo Alto CA), Process chamber sleeve with ring seals for isolating individual process modules in a common cluster.
상세보기
Kim Daehwan D., Process chamber tray.
상세보기
Hirayama Makoto (Hyogo JPX), Reaction furnace and method of operating the same.
상세보기
Wang Hougong ; Lai Steve ; Yao Gongda ; Ding Peijun, Reflow chamber and process.
상세보기
Wang Hougong ; Lai Steve ; Yao Gongda ; Ding Peijun, Reflow chamber and process.
상세보기
Ke Ling Lee ; Mikhail Mazur ; Ken Lee ; Robert M. Martinson, System and method for transporting and sputter coating a substrate in a sputter deposition system.
상세보기
Tepman Avi, Transfer chamber.
상세보기
Yasar Tugrul ; Robison Rodney Lee ; Deyo Daniel ; Zielinski Marian, Transport system for wafer processing line.
상세보기
Keigler, Arthur, Wetting a workpiece surface in a fluid-processing system.
상세보기

내보내기 메뉴

내보내기 구분

파일저장
인쇄
메일전송

구성항목

기본정보
상세정보

관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC

저장형식

Text(ASCII format)
Excel format
PIAS분석(.xls)

메일정보

받는사람 (필수): @
보내는사람 (선택): @
제목
내용: KISTI 검색결과 이메일 서비스

안내

총 건의 자료가 검색되었습니다.

다운받으실 자료의 인덱스를 입력하세요. (1-10,000)

검색결과의 순서대로 최대 10,000건 까지 다운로드가 가능합니다.

데이타가 많을 경우 속도가 느려질 수 있습니다.(최대 2~3분 소요)

다운로드 파일은 UTF-8 형태로 저장됩니다.
파일의 내용이 제대로 보이지 않을실 때는 웹브라우저 상단의 보기 -> 인코딩 -> 자동선택 여부를 확인하십시오.

Text(ASCII format)
Excel format

AI-Helper ※ AI-Helper는 을 사용합니다.

AI-Helper

안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

연합인증

Apparatus for coating substrate devices 원문보기

초록 ▼

대표청구항 ▼

연구과제 타임라인

이 특허를 인용한 특허 (24)

관련 콘텐츠

특허 원문 보기

IPC 상위 출원인

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

선택된 텍스트

내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
저장형식	Text(ASCII format) Excel format PIAS분석(.xls)
메일정보	받는사람 (필수) @ 보내는사람 (선택) @ 제목 내용 KISTI 검색결과 이메일 서비스
안내	총 건의 자료가 검색되었습니다. 다운받으실 자료의 인덱스를 입력하세요. (1-10,000) 검색결과의 순서대로 최대 10,000건 까지 다운로드가 가능합니다. 데이타가 많을 경우 속도가 느려질 수 있습니다.(최대 2~3분 소요) 다운로드 파일은 UTF-8 형태로 저장됩니다. 파일의 내용이 제대로 보이지 않을실 때는 웹브라우저 상단의 보기 -> 인코딩 -> 자동선택 여부를 확인하십시오. ~ Text(ASCII format) Excel format

연합인증

Apparatus for coating substrate devices 원문보기

초록 ▼

대표청구항 ▼

연구과제 타임라인

전체(0) 논문(0) 특허(0) 보고서(0)

전체(0) 논문(0) 특허(0) 보고서(0)

이 특허를 인용한 특허 (24)

관련 콘텐츠

특허 원문 보기

IPC 상위 출원인

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

선택된 텍스트