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Apparatus for removing covering film 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-011/00
출원번호 US-0881073 (1986-07-02)
발명자 / 주소
  • Hayashi Chikara (Chigasaki JPX)
출원인 / 주소
  • Research Development Corporation of Japan (Chiba JPX 03) Vacuum Metallurgical Co., Ltd. (Tokyo JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 27  인용 특허 : 0

초록

An apparatus for removing a photo-resist covering from a substrate employs fine solid CO2 particles that are impacted on the substrate at high velocity to cause abrading of the photo-resist covering in the absence of damage or contamination of the substrate.

대표청구항

An apparatus for removing a photo resist covering film by blowing fine solid CO2 particles against a covering film applied to a surface of a substrate, including a jet nozzle directly connected through a connecting pipe to a bomb containing liquefied carbonic acid gas and arranged to be directed tow

이 특허를 인용한 특허 (27)

  1. Narayanswami Natraj ; Wagener Thomas J. ; Siefering Kevin L. ; Cavaliere William A., Aerodynamic aerosol chamber.
  2. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero ; van der Heide Robert G., Aerosol surface processing.
  3. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero ; van der Heide Robert G., Aerosol surface processing.
  4. Bran,Mario E., Apparatus for megasonic processing of an article.
  5. Goenka Lakhi Nandlal (Ann Arbor MI), CO2 cleaning nozzle and method with enhanced mixing zones.
  6. Goenka Lakhi N. (Ann Arbor MI), CO2 nozzle and method for cleaning pressure-sensitive surfaces.
  7. Becker David Scott ; Hanestad Ronald J. ; Thomes Gregory P. ; Weygand James F. ; Zimmerman Larry D., Eliminating stiction with the use of cryogenic aerosol.
  8. Jon Min-Chung (Princeton Junction NJ) Nicholl Hugh (Berthoud CO) Read Peter Hartpence (Morrisville PA), Method and apparatus for CO2 cleaning with mitigated ESD.
  9. Bras, Dominique; Buil, José, Method and device for injecting two-phase COin a transfer gaseous medium.
  10. Bran, Mario E., Method for megasonic processing of an article.
  11. Charles W. Bowers, Method for selective metal film layer removal using carbon dioxide jet spray.
  12. Bran,Mario E., Method of cleaning a side of a thin flat substrate by applying sonic energy to the opposite side of the substrate.
  13. Bran, Mario E., Method of manufacturing integrated circuit devices.
  14. Kunkel, Pam; Narayanswani, Natraj; Patrin, John C., Nozzle design for generating fluid streams useful in the manufacture of microelectronic devices.
  15. Bowers Charles W., Photoresist and redeposition removal using carbon dioxide jet spray.
  16. Kanno Itaru,JPX, Post-treatment method for dry etching.
  17. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero, Processing a surface.
  18. Wagener Thomas J. ; Siefering Kevin L. ; Kunkel Pamela A. ; Weygand James F. ; Thomes Gregory P., Rotatable and translatable spray nozzle.
  19. Bran, Mario E., System for megasonic processing of an article.
  20. Bran,Mario E., Transducer assembly for megasonic processing of an article and apparatus utilizing the same.
  21. Patrin John C. ; Heitzinger John M., Treating substrates by producing and controlling a cryogenic aerosol.
  22. Bran, Mario E., Wafer cleaning.
  23. Bran, Mario E., Wafer cleaning.
  24. Bran Mario E., Wafer cleaning method.
  25. Mario E. Bran, Wafer cleaning method.
  26. Bran Mario E., Wafer cleaning system.
  27. Bran Mario E., Wafer cleaning system.
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