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Apparatus for removing organic substance from substrate 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-003/02
  • B08B-005/02
출원번호 US-0919226 (1986-10-15)
우선권정보 JP-0164215 (1985-10-28)
발명자 / 주소
  • Hayashi Noriyuki (Shiga JPX) Murayama Hiromi (Kyoto JPX) Ishino Yukihiko (Kyoto JPX)
출원인 / 주소
  • Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. (Kyoto JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 22  인용 특허 : 0

초록

An apparatus for removing organic substances from a substrate, including ultraviolet lamps provided above a horizontal hot plate on which a substrate is placed; an ozone blow-off pipe which blows ozone downward, provided at a position appropriately distant from the surface of the hot plate on which

대표청구항

An apparatus for removing organic substances from a substrate, comprising a hot plate defining a support surface for receiving the substrate and heating that substrate to a desired temperature; ultraviolet lamps fixedly arranged above said hot plate and disposed in parallel with said surface of said

이 특허를 인용한 특허 (22)

  1. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero ; van der Heide Robert G., Aerosol surface processing.
  2. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero ; van der Heide Robert G., Aerosol surface processing.
  3. Fayfield Robert T. ; Schwab Brent, Apparatus for processing both sides of a microelectronic device precursor.
  4. Butterbaugh,Jeffery W.; Gray,David C.; Fayfield,Robert T.; Siefering,Kevin; Heitzinger,John; Hiatt,Fred C., Apparatus for surface conditioning.
  5. Doran Daniel B., Automated washing method.
  6. Englhardt, Eric A.; Rice, Michael R.; Hudgens, Jeffrey C.; Hongkham, Steve; Pinson, Jay D.; Salek, Mohsen; Carlson, Charles; Weaver, William T; Armer, Helen R., Cartesian cluster tool configuration for lithography type processes.
  7. Rice, Mike; Hudgens, Jeffrey; Carlson, Charles; Weaver, William Tyler; Lowrance, Robert; Englhardt, Eric; Hruzek, Dean C.; Silvetti, Dave; Kuchar, Michael; Katwyk, Kirk Van; Hoskins, Van; Shah, Vinay, Cartesian robot cluster tool architecture.
  8. Ishikawa, Tetsuya; Roberts, Rick J.; Armer, Helen R.; Volfovski, Leon; Pinson, Jay D.; Rice, Michael; Quach, David H.; Salek, Mohsen S.; Lowrance, Robert; Backer, John A.; Weaver, William Tyler; Carlson, Charles; Wang, Chongyang; Hudgens, Jeffrey; Herchen, Harald; Lue, Brian, Cluster tool architecture for processing a substrate.
  9. Ishikawa, Tetsuya; Roberts, Rick J.; Armer, Helen R.; Volfovski, Leon; Pinson, Jay D.; Rice, Michael; Quach, David H.; Salek, Mohsen S.; Lowrance, Robert; Backer, John A.; Weaver, William Tyler; Carlson, Charles; Wang, Chongyang; Hudgens, Jeffrey; Herchen, Harald; Lue, Brian, Cluster tool architecture for processing a substrate.
  10. Ishikawa, Tetsuya; Roberts, Rick J.; Armer, Helen R.; Volfovski, Leon; Pinson, Jay D.; Rice, Michael; Quach, David H.; Salek, Mohsen S.; Lowrance, Robert; Backer, John A.; Weaver, William Tyler; Carlson, Charles; Wang, Chongyang; Hudgens, Jeffrey; Herchen, Harald; Lue, Brian, Cluster tool architecture for processing a substrate.
  11. Ishikawa,Tetsuya; Roberts,Rick J.; Armer,Helen R.; Volfovski,Leon; Pinson,Jay D.; Rice,Michael; Quach,David H.; Salek,Mohsen S.; Lowrance,Robert; Backer,John A.; Weaver,William Tyler; Carlson,Charles; Wang,Chongyang; Hudgens,Jeffrey; Herchen,Harald; Lue,Brian, Cluster tool architecture for processing a substrate.
  12. Volfovski, Leon; Ishikawa, Tetsuya, Cluster tool substrate throughput optimization.
  13. Fayfield Robert T. ; Schwab Brent, Equipment for UV wafer heating and photochemistry.
  14. Fayfield, Robert T.; Schwab, Brent, Equipment for UV wafer heating and photochemistry.
  15. Butterbaugh Jeffery W. ; Gray David C. ; Fayfield Robert T. ; Siefering Kevin ; Heitzinger John ; Hiatt Fred C., Method and apparatus for surface conditioning.
  16. Suzuki Shinji (Kawasaki JPX) Seki Kyohei (Yamato JPX) Ebashi Nobutoshi (Sagamihara JPX) Arai Tetsuji (Yokohama JPX), Method for ashing a photoresist resin film on a semiconductor wafer and an asher.
  17. Jeffery W. Butterbaugh ; Brent Schwab, Method of surface preparation.
  18. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero, Processing a surface.
  19. Rice, Mike; Hudgens, Jeffrey; Carlson, Charles; Weaver, William Tyler; Lowrance, Robert; Englhardt, Eric; Hruzek, Dean C.; Silvetti, Dave; Kuchar, Michael; Van Katwyk, Kirk; Hoskins, Van; Shah, Vinay, Substrate processing sequence in a Cartesian robot cluster tool.
  20. Rice, Mike; Hudgens, Jeffrey; Carlson, Charles; Weaver, William Tyler; Lowrance, Robert; Englhardt, Eric; Hruzek, Dean C.; Silvetti, Dave; Kuchar, Michael; Katwyk, Kirk Van; Hoskins, Van; Shah, Vinay, Substrate processing sequence in a cartesian robot cluster tool.
  21. Rice, Mike; Hudgens, Jeffrey; Carlson, Charles; Weaver, William Tyler; Lowrance, Robert; Englhardt, Eric; Hruzek, Dean C.; Silvetti, Dave; Kuchar, Michael; Van Katwyk, Kirk; Hoskins, Van; Shah, Vinay, Substrate processing sequence in a cartesian robot cluster tool.
  22. Chen, Ga-Lane; Fung, Simon Wing-Tat, Treatment of air-bearing surface of a disc drive slider with light and oxidizing gas.
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