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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0007212 (1987-01-27) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 12 인용 특허 : 10 |
A substrate handling system supplies new wafers to a vacuum chamber containing a lithography system, and outputs processed semiconductor wafers to an environment with normal atmospheric pressure. New wafers on a transplate pass by way of an air film track to a transload which feeds them from a load
A substrate handling system, for use with a lithography system which is housed in a vacuum chamber, said substrate handling system receiving and supplying unprocessed substrates to said lithography system in said vacuum chamber, said substrate handling system receiving processed semiconductor wafers
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