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특허 상세정보

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Substrate handling system

특허상세정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) C23C-013/08   
미국특허분류(USC) 414/217 ; 414/751 ; 414/222 ; 414/609
출원번호 US-0007212 (1987-01-27)
발명자 / 주소
출원인 / 주소
인용정보 피인용 횟수 : 12  인용 특허 : 10
초록
▼

A substrate handling system supplies new wafers to a vacuum chamber containing a lithography system, and outputs processed semiconductor wafers to an environment with normal atmospheric pressure. New wafers on a transplate pass by way of an air film track to a transload which feeds them from a load platform to a vacuum lock elevator. The inner door of the vacuum lock elevator opens and a completed transplate is transferred to the top shelf of the vacuum lock elevator. Next the vacuum lock elevator lifts to its upper position and the subsequent transfer o...

대표
청구항
▼

A substrate handling system, for use with a lithography system which is housed in a vacuum chamber, said substrate handling system receiving and supplying unprocessed substrates to said lithography system in said vacuum chamber, said substrate handling system receiving processed semiconductor wafers from said lithography system and outputting them into an environment with normal atmospheric pressure, said substrate handling system comprising: a means for loading each of said unprocessed substrates onto a transfer plate, said loading means thereby outputt...

이 특허에 인용된 특허 (10)

  1. Sato, Kazuo; Yamaguchi, Sumio; Kato, Shigeo; Matsumura, Yasuhide; Mizumoto, Muneo; Okuno, Sumio; Tamura, Naoyuki. Apparatus for molecular beam epitaxy. USP1985094542712.
  2. Yamawaki Masao (Handa JP) Aoki Katsuo (Aichi JP) Oka Yoshio (Toyota JP) Suzuki Takao (Kariya JP) Amano Masahiko (Handa JP) Ozaki Hideki (Gamagori JP) Ishihara Osamu (Toyota JP). Apparatus for thermal diffusion by high frequency induction heating of semiconductor substrates. USP1979044147432.
  3. Freeman, Gary T.; Maxner, Richard B.; Nash, Thomas F.. Automatic board handling mechanism. USP1985124558983.
  4. Takahashi Nobuyuki (Tokyo JPX) Sugimoto Ryuji (Tokyo JPX) Shirai Yasuyuki (Tokyo JPX). Automatic loader. USP1987024643629.
  5. Beaver ; II Robert I. (Menlo Park CA) Adams Michael J. (San Jose CA) Prodanovich George L. (Campbell CA) Key Paul F. (San Martin CA) Rawlings Don O. (San Jose CA) Santhanam P. (Sunnyvale CA) Hunt Sus. Buffer storage apparatus for semiconductor wafer processing. USP1979124178113.
  6. Guarino Nicholas (Arlington MA). Lock and elevator arrangement for loading workpieces into the work chamber of an electron beam lithography system. USP1981074278380.
  7. Shih Hung-Dah (Plano TX) Bennett Tommy J. (McKinney TX). MBE system with in-situ mounting. USP1986084605469.
  8. Rubin Richard H. (West Paterson NJ) Hillman Gary (Livingston NJ) Zarr Lewis E. (Sparta NJ) Hayes William K. (Parsippany NJ). Process apparatus and method and elevator mechanism for use in connection therewith. USP1987084685852.
  9. Mirkovich Ninko T. (Novato CA) Zajac John (San Jose CA). Vacuum load lock apparatus. USP1986124632624.
  10. Garrett, Charles B.. Wafer lifting and holding apparatus. USP1985124558984.

이 특허를 인용한 특허 피인용횟수: 12

  1. Hiroki Tutomu (Yamanashi-ken JPX) Abe Shoichi (Kofu JPX) Akiyama Kiyotaka (Kofu JPX) Satoyoshi Tsutomu (Niraski JPX). Apparatus for detecting and aligning a substrate. USP1997065636960.
  2. Kim Jin-man,KRX. Device for introducing a vacuum to the vacuum chuck of a semiconductor device fabrication facility. USP2000016012751.
  3. Nishi,Kenji. Exposure method, exposure apparatus, and method for producing device. USP2006107126689.
  4. Walde Michael (Rodenbach DEX) Zeidler Peter (Hanau DEX) Domroese Dirk (Bispingen-Behringen DEX). Installation for charging and discharging substrates out of a vacuum tank. USP1990034907526.
  5. del Puerto, Santiago; Eurlings, Markus F. A.. Lithography tool having a vacuum reticle library coupled to a vacuum chamber. USP2004116826451.
  6. del Puerto,Santiago; Eurlings,Markus F. A.. Lithography tool having a vacuum reticle library coupled to a vacuum chamber. USP2006067057711.
  7. Ostapenko, Sergei. Method and apparatus for detecting cracks and delamination in composite materials. USP2018049933394.
  8. Ostapenko, Sergei. Method and apparatus for in-line quality control of wafers. USP2013098528407.
  9. Benedetto John R. ; Gillespie ; Jr. William ; Benedetto Deborah. Screen printing machine registration system. USP2000036038970.
  10. Park,Yong Seok; Kim,Sang Ho; Jo,Han beom. Substrate floating apparatus and method of manufacturing liquid crystal display apparatus using the same. USP2006057037063.
  11. Matsumura Yoshio,JPX. Substrate processing device and method for substrate from the substrate processing device. USP1998105823736.
  12. Reyes ; Jr. J. Carlos ; McStay David S. ; Friede Donald L.. Wafer disk pad having one or more wafer loading points to facilitate vacuum wand wafer loading and unloading. USP2000116149368.

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