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[미국특허] Planetary substrate carrier method and apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-014/34
출원번호 US-0827832 (1986-02-06)
발명자 / 주소
  • Bloomquist Darrel R. (Boise ID) Drennan George A. (Eagle ID) Opfer James E. (Palo Alto CA)
출원인 / 주소
  • Hewlett-Packard Company (Palo Alto CA 02)
인용정보 피인용 횟수 : 22  인용 특허 : 11

초록 ▼

An inexpensive, vertically oriented multiple substrate carrier is disclosed for high-temperature, high vacuum film deposition systems. In one embodiment, the substrates have central circular openings and the carrier includes a plurality of supports on which the substrates hang, with each support, su

대표청구항 ▼

A method of supporting substrates during sputter deposition of a film onto the major surfaces of the substrates comprising the steps of: hanging each of the substrates from a central substrate opening on a substrate support extending through the central substrate opening such that the substrates are

이 특허에 인용된 특허 (11) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Allen Ronald (San Jose CA) Chen Tu (Saratoga CA), Disk carrier.
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  2. Boys Donald R. (Cupertino CA) Graves Walter E. (San Jose CA), Disk or wafer handling and coating system.
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  3. Macaulay Alexander (Cupertino CA), Sputtering apparatus and methods.
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  4. Stewart William W. (Allentown PA), Sputtering apparatus and methods using a magnetic field.
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  5. Graves, Jr., Walter E., Substrate and substrate holder.
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  6. Slabaugh Edward J. (San Jose CA), Substrate rotation method and apparatus.
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  7. Cameron George (Birmingham MI), Transfer machine.
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  8. Hutchinson, Martin A.; Shaw, R. Howard; Coad, George, Transfer plate rotation system.
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  9. Love Robert B. (Franklin TN), Vacuum deposition system and method.
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  10. Dean Robert E. (High Bridge NJ) Fink James L. (Millburn NJ), Wafer holding apparatus and method.
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  11. Hertel Richard J. (Bradford MA), Wafer orientation system.
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이 특허를 인용한 특허 (22) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Bulthaup, Colin; Griffith, Saul; Goldwater, Dan; Hardham, Corwin; Homsy, George; Wilhelm, Eric; Warshawsky, Brian; Heinrich, Mitch; Lin, Michael; Lewis, John, Gearless human power generation.
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  2. Bulthaup, Colin; Griffith, Saul; Goldwater, Dan; Hardham, Corwin; Homsy, George; Wilhelm, Eric, Human power generation using dual pulls.
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  3. Yang, Yun-Sik; Kim, Jin-Man; Min, Young-Min; Jo, Chang-Hyun, Input/output valve switching apparatus of semiconductor manufacturing system.
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  4. Petropoulos Mark (Ontario NY) Hammond John M. (Ontario NY) Berger Stuart B. (Rochester NY), Method and apparatus for cleaning, coating and curing receptor substrates in an enclosed planetary array.
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  5. Chen, AiHua; Todaka, Ryoji; Yin, Gerald, Method and apparatus for processing semiconductor work pieces.
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  6. Lee, William David; Ness, Dale C.; Streater, Alan D., Methods and devices for monitoring and controlling thin film processing.
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  7. Lee, William David; Ness, Dale C.; Streater, Alan D., Methods and devices for monitoring and controlling thin film processing.
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  8. Swain Eugene A. (Webster NY), Modular apparatus for cleaning, coating and curing photoreceptors in a dual planetary array.
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  9. Swain Eugene A. (Webster NY) Vo Thong (Webster NY), Modular apparatus for cleaning, coating and curing photoreceptors in an enclosed planetary array.
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  10. Gomez, Rafael; Ghafar, Abdul; Borkowski, Jonathan E.; Coghlan, Kay; Cannavo, Andres; Ow, Rodney C., Modular frame for a wafer fabrication system.
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  11. De Bosscher, Wilmert; Van De Putte, Ivan; Staelens, Koen, Module for coating both sides of a substrate in a single pass.
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  12. Lofaro, Michael F., Multi-generational carrier platform.
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  13. Lofaro, Michael F., Multi-generational carrier platform.
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  14. Dinsmore,Michael P., Particle capture system.
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  15. Kuge, Morimasa; Tanaka, Hideyuki; Tsujita, Keiji; Takahara, Kazunori, Plate member conveying apparatus and method of conveying plate member.
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  16. Tixhon, Eric; Leclercq, Joseph; Michel, Eric, Process for depositing films simultaneously onto both sides of a substrate.
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  17. Hollars Dennis R. ; Waltrip Delbert F. ; Zubeck Robert B. ; Bonigut Josef ; Smith Robert M. ; Payne Gary L., Sputtering magnetron.
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  18. Iida, Tsukasa; Yoneda, Akihiko; Inoshima, Kaori, Substrate processing apparatus.
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  19. Iida, Tsukasa; Yoneda, Akihiko; Inoshima, Kaori, Substrate processing apparatus.
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  20. Babbs Daniel A. ; Shultz Richard E. ; Strien John Van, Sustrate housing and docking system.
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  21. Yasar Tugrul ; Robison Rodney Lee ; Deyo Daniel ; Zielinski Marian, Transport system for wafer processing line.
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  22. Takahashi,Nobuyuki, Vacuum chamber assembly.
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