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[미국특허] Double wall fast cool-down furnace 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-016/00
출원번호 US-0001444 (1987-01-08)
발명자 / 주소
  • Waugh Arthur (Winchester MA)
출원인 / 주소
  • BTU Engineering Corporation (North Billerica MA 02)
인용정보 피인용 횟수 : 14  인용 특허 : 0

초록

One fast cool-down furnace embodiment discloses a double wall in the interspace of which a cooling air stream is flowable to provide fast cool-down of a load of wafers. The double wall embodiment is retrofittable on existing diffusion furnaces, and includes a cylindrical member aligned in concentric

대표청구항

A fast cool-down furnace, comprising: a reaction vessel having an outer wall and defining an elongated reaction chamber having a length; means coupled to the reaction vessel for heating the reaction chamber; means coupled to the reaction vessel for injecting reactants in gas phase into the reaction

이 특허를 인용한 특허 (14) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Gat Arnon ; Champetier Robert J. ; Fabian Ram Z.,ILX, Apparatus and method for filtering light in a thermal processing chamber.
  2. Kuppurao, Satheesh; Carlson, David K.; Hemkar, Manish; Lam, Andrew; Sanchez, Errol; Beckford, Howard, Apparatus to control semiconductor film deposition characteristics.
  3. Mellen, Jonathan Y., Furnace system with active cooling system and method.
  4. Arena, Chantal; Werkhoven, Christiaan, Gallium trichloride injection scheme.
  5. Arena, Chantal; Bertram, Jr., Ronald Thomas; Lindow, Ed; Werkhoven, Christiaan, Gas injectors including a funnel- or wedge-shaped channel for chemical vapor deposition (CVD) systems and CVD systems with the same.
  6. Jonnalagadda, Rajanikant; Miller, Brian J., Isolation and flow direction/control plates for a heat exchanger.
  7. Dennis T. Garn ; Jerry S. Lee ; James W. Rudolph, Method and apparatus for cooling a CVI/CVD furnace.
  8. Fiala, Robert; Rudolph, James W.; Garn, Dennis T.; Lee, Jerry S., Method and apparatus for cooling a CVI/CVD furnace.
  9. Garn, Dennis T.; Lee, Jerry S.; Rudolph, James W., Method and apparatus for cooling a CVI/CVD furnace.
  10. Kuo,Chia Chu, Method and apparatus for rapid cooldown of annealed wafer.
  11. Witting, Peter R.; Stry, William J.; Vander Weide, Carl H; Purdy, Jeffrey E.; Ginn, Jason A., Overhung rotary tube furnace.
  12. Tanaka, Kazuo; Yamaguchi, Hideto; Urabe, Kenzo, Temperature control simulation method and apparatus.
  13. Yoshii, Koji; Yamaguchi, Tatsuya; Wang, Wenling; Saito, Takanori, Thermal processing apparatus and method of controlling the same.
  14. Yoshii, Koji; Yamaguchi, Tatsuya; Wang, Wenling; Saito, Takanori, Thermal processing apparatus and method of controlling the same.

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