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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0885197 (1986-07-14) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 201 인용 특허 : 17 |
A photomask and reticle inspection method and apparatus wherein a selected surface area of an object is inspected and a first stream of data having signal values representing the image content of each pixel thereof is generated, a second stream of data having signal values representing the intended
A method of detecting defects in objects such as photomasks, reticles, wafers, printed circuit boards, and the like, comprising the steps of: inspecting a selected surface area of an object and generating a first stream of data having signal values representing the image content of each pixel thereo
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