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Apparatus for passing workpieces into and out of a coating chamber through locks 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-014/22
출원번호 US-0092171 (1987-09-02)
우선권정보 DE-3716498 (1987-05-16)
발명자 / 주소
  • Walde Michael (Rodenbach DEX) Zejda Jaroslav (Rodenbach DEX)
출원인 / 주소
  • Leybold-Heraeus GmbH (Cologne DEX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 24  인용 특허 : 4

초록

In an apparatus for passing a discoidal workpiece into and out of a coating chamber through a lock and for shifting the workpiece into and out of the range of a coating source, a swivelling arm is journaled for movement about a vertical axis on the top of the coating chamber. The ends of the swiveli

대표청구항

Apparatus for passing a substantially flat workpiece into and out of an evacuated coating chamber through a lock, and for moving and turning the workpiece into and out of the range of a coating source for the purpose of treating the workpiece surface, characterized by a coating system disposed in th

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. Helser Jerry L. (Hebron OH), Hydrous calcium silicate insulation products manufactured by recycling greenware.
  2. Mack Alfred (Poughkeepsie NY) O\Neill Brian C. (Millbrook NY) Penzetta Fred L. (Wappingers Falls NY), Low shock transmissive antechamber seal mechanisms for vacuum chamber type semi-conductor wafer electron beam writing ap.
  3. Rubin Richard H. (West Paterson NJ) Hillman Gary (Livingston NJ) Zarr Lewis E. (Sparta NJ) Hayes William K. (Parsippany NJ), Process apparatus and method and elevator mechanism for use in connection therewith.
  4. Kawashima Sosuke (Kudamatsu JPX) Ichihashi Kazuaki (Kudamatsu JPX), Vacuum processing apparatus.

이 특허를 인용한 특허 (24)

  1. Slater Daniel A. (Rochester NY) Kline Patrick J. (Rochester NY) Marowski Robert E. (Rochester NY), Apparatus and method for cooling hot disk-shaped objects.
  2. Kempf Stefan (Alzenau DEX) Sichmann Eggo (Gelnhausen DEX), Apparatus for the transfer of substrates.
  3. Kempf Stefan,DEX ; Konig Michael,DEX, Apparatus for transfer of workpieces into and out of a coating chamber.
  4. Zejda Jaroslav (Rodenbach DEX), Cathode sputtering system.
  5. Schertler, Roman, Chamber for the transport of workpieces in a vacuum atmosphere, a chamber combination and a method for transporting a workpiece.
  6. Schertler Roman,ATX, Chamber, at least for the transport of workpieces, a chamber combination, a vacuum treatment facility as well as a trans.
  7. Schertler Roman,ATX, Chamber, at least for the transport of workpieces, a chamber combination, a vacuum treatment facility as well as a transport method.
  8. Avi Tepman ; Donald J. K. Olgado ; Allen L. D'Ambra, Dual buffer chamber cluster tool for semiconductor wafer processing.
  9. Kraus, Joseph Arthur; Strassner, James David, Dual wafer load lock.
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  15. Ding,Peijun; Xu,Zheng; Zhang,Hong; Tang,Xianmin; Gopalraja,Praburam; Rengarajan,Suraj; Forster,John C.; Fu,Jianming; Chiang,Tony; Yao,Gongda; Chen,Fusen E.; Chin,Barry L.; Kohara,Gene Y., Method of depositing a tantalum nitride/tantalum diffusion barrier layer system.
  16. Bright Nick ; Mooring Ben, Modular architecture for semiconductor wafer fabrication equipment.
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  21. Konig Michael,DEX, Sputtering device for coating an essentially flat disk-shaped substrate.
  22. Lee Ke Ling ; Mazur Mikhail ; Lee Ken ; Martinson Robert M., System and method for handling and masking a substrate in a sputter deposition system.
  23. Ke Ling Lee ; Mikhail Mazur ; Ken Lee ; Robert M. Martinson, System and method for transporting and sputter coating a substrate in a sputter deposition system.
  24. Tepman Avi, Transfer chamber.
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