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Method of producing highly absorbent resins 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C08F-008/00
출원번호 US-0046332 (1987-05-06)
우선권정보 JP-0115001 (1986-05-19)
발명자 / 주소
  • Kondo Susumu (Kyoto JPX) Moriya Tetsuo (Hirakata JPX)
출원인 / 주소
  • Nippon Gohsei Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha (Osaka JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 12  인용 특허 : 6

초록 ▼

Polymerization of acrylic or methacrylic acid and a water-soluble acrylic or methacrylic acid salt in the presence of a carboxyl group-containing polyvinyl alcohol resin gives highly water-absorbing resins with the water absorbency, water absorption rate, water insolubility and other characteristics

대표청구항 ▼

A method of producing highly water-absorbing resins which comprises polymerizing acrylic or methacrylic acid respectively together with a water-soluble acrylic or methacrylic acid salt in the presence of a carboxyl group-containing polyvinyl alcohol resin consisting of saponified vinyl ester-ethylen

이 특허에 인용된 특허 (6)

  1. Gross James R. (Lake Jackson TX), Absorbent articles and methods for their preparation.
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  2. Yamasaki Harumasa (Wakayama JPX) Kobayashi Takatoshi (Wakayama JPX) Ito Osamu (Utsunomiya JPX) Sakurai Akira (Utsunomiya JPX) Sumida Yuzo (Wakayama JPX), Absorptive material.
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  3. Weissgerber Rudolf (Burghausen DEX) Stoll Alois (Burghausen DEX) Kandler Herbert (Burghausen DEX) Nunner Hans-Herbert (Burghausen DEX) Eichelseder Christine (Burghausen DEX) Pangeri Helmut (Burghause, Graft copolymer pressure-sensitive adhesives, their manufacture and use.
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  4. Fujita Fumio (Takatsuki JPX) Kitamura Shuji (Ibaraki JPX) Tamura Toshifumi (Takatsuki JPX) Nagase Tsuneyuki (Takatsuki JPX), Method for preparing highly absorbent hydro-gel polymers.
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  5. Yoshida Tooru (Yokohama JPX) Iwagami Seigo (Tokyo JPX) Ueshima Takashi (Yokohama JPX) Hosoda Yoshikazu (Yokohama JPX), Process for the production of highly water-absorbing but less water-soluble hydrogels.
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  6. Obayashi, Shigeji; Nakamura, Morio; Yamamoto, Takushi; Fujikake, Masato, Water-absorbent resin having improved water-absorbency and improved water-dispersibility and process for producing same.
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이 특허를 인용한 특허 (12)

  1. Mizutani, Tomoyoshi, Film for packaging chemical agents.
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  2. Narita, Mitsuo; Tabata, Masaki; Yoshida, Atsushi; Umezawa, Hiroshi, Methods for preparing alkali cellulose and cellulose ether.
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  3. Watanabe, Satoshi; Otake, Hirohisa, Modified polyvinyl alcohol and process for producing the same.
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  4. Kobayashi, Taishi; Imura, Motohiro; Iwamura, Taku; Wada, Katsuyuki; Nogi, Kozo; Mitsukami, Yoshiro; Abe, Masato; Ueda, Hiroko; Honda, Koji, Particulate water absorbent and process for production thereof.
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  5. Kobayashi, Taishi; Imura, Motohiro; Iwamura, Taku; Wada, Katsuyuki; Nogi, Kozo; Mitsukami, Yoshiro; Abe, Masato; Ueda, Hiroko; Honda, Koji, Particulate water absorbent and process for production thereof.
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  6. Fujimaru, Hirotama; Ishizaki, Kunihiko; Nakahara, Sei, Polyacrylic acid (salt) water-absorbent resin, production process thereof, and acrylic acid used in polymerization for production of water-absorbent resin.
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  7. Cote Roland,CAX ; Hosette Sophie,CAX ; Amazouz Mouloud,CAX, Polymeric desiccant articles and process for their manufacture.
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  8. Dairoku, Yorimichi; Mitsukami, Yoshiro; Irie, Yoshio; Fujino, Shin-ichi, Production method for hydrophilic polymer.
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  9. Breidenthal, Scott S.; Kacian, Daniel L.; Lee, Richard S.; Nelson, Norman C.; Scott, Matthew J.; Taylor, Jason A., Receptacles for storing substances in different physical states.
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  10. Nakamura, Masatoshi; Miyake, Koji; Iwamura, Taku; Watanabe, Yusuke, Water-absorbent resin composition, method of manufacturing the same, and absorbent article.
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  11. Otani Kazuya,JPX ; Matsuoka Masahiro,JPX ; Maeda Kohei,JPX ; Nagata Kozaburo,JPX ; Ando Takao,JPX ; Nakanishi Toru,JPX ; Ishikawa Isao,JPX ; Tsuji Takayuki,JPX, Water-absorbent resin dispersion and polyurethane composition.
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  12. Sakamoto, Shigeru; Ikeuchi, Hiroyuki; Machida, Sayaka, Water-absorbing resin and method for manufacturing the same.
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