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Method for producing an atomic oxygen beam 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01D-053/32
출원번호 US-0113955 (1987-10-29)
발명자 / 주소
  • Outlaw Ronald A. (Newport News VA)
출원인 / 주소
  • The United States of America as represented by the Administrator of the National Aeronautics and Space Administration (Washington DC 06)
인용정보 피인용 횟수 : 8  인용 특허 : 8

초록

A method for producing an atomic oxygen beam is provided by the present invention. First, a material 10′is provided which dissociates molecular oxygen and dissolves atomic oxygen into its bulk. Next, molecular oxygen is exposed to entrance surface 11′of material 10′. Next, material 10′is heated by h

대표청구항

A method of producing an atomic oxygen beam comprising: providing a material having two sides, which material dissociates molecular oxygen and dissolves atomic oxygen into its bulk: exposing one side of said material to molecular oxygen; providing an ultra high vacuum environment of a pressure of le

이 특허에 인용된 특허 (8)

  1. Nolan Mary E. (Topsfield MA) LaConti Anthony B. (Lynnfield MA), Integrated electrochemical/chemical oxygen generating system.
  2. Rempt Raymond D. (Woodinville WA), Method and apparatus for producing a monatomic beam of ground-state atoms.
  3. Roman, Ian C.; Baker, Richard W., Method and apparatus for producing oxygen and nitrogen and membrane therefor.
  4. Suzuki Nobukazu (Tokyo JPX) Tsuruta Shinji (Yokohama JPX), Oxygen permeable membrane.
  5. Kent Ronald A. (Houston TX) Fein Marvin M. (Westfield NJ), Ozone control catalyst compositions.
  6. Bruel Michel (Veurey FRX) Soubie Alain (St. Egreve FRX) Spinelli Philippe (La Tronche FRX), Process and apparatus for implanting particles in a solid.
  7. Murray John N. (Lutherville MD) Hynek Robert J. (Brookfield WI), Process for generating ultra high purity H2 or O2.
  8. Bonaventura Joseph (Beaufort NC) Bonaventura Celia (Beaufort NC) Van Ryzin Joseph C. (Kailua HI) Zenner Bruce D. (Beaufort NC) Anderson C. William (Durham NC), System for the extraction and utilization of oxygen from fluids.

이 특허를 인용한 특허 (8)

  1. Chen, Lee; Ludviksson, Audunn, Method and system for etching high-k dielectric materials.
  2. Chen,Lee; Ludviksson,Audunn, Method and system for etching high-k dielectric materials.
  3. Koontz Steven L. (Seabrook TX) Cross Jon B. (Santa Fe NM), Method for anisotropic etching in the manufacture of semiconductor devices.
  4. Yu Zhiyi (Jimmy) ; Passlack Matthias ; Bowers Brian ; Overgaard Corey Daniel ; Droopad Ravindranath ; Abrokwah Jonathan Kwadwo, Method of forming a gate quality oxide-compound semiconductor structure.
  5. Oyoshi Keiji (Tsukuba JPX) Tagami Takashi (Tsukuba JPX) Tanaka Shuhei (Tsukuba JPX), Method of preparing an alkali metal diffusion preventive layer.
  6. Hoffbauer Mark A. ; Prettyman Thomas H., Reduction of surface leakage current by surface passivation of CdZn Te and other materials using hyperthermal oxygen atoms.
  7. Outlaw Ronald A. ; Davidson Mark R., Small vacuum compatible hyperthermal atom generator.
  8. Brown, Ian J., Substrate cleaning method and system using atmospheric pressure atomic oxygen.
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