[특허]Method for making a reticle mask

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	G03F-001/00 G03F-009/00
출원번호	US-0187499 (1988-04-28)
발명자 / 주소	Chapman David C. (Campbell CA) Erck Wesley R. (Hayward CA)
출원인 / 주소	VLSI Technology, Inc. (San Jose CA 02)
인용정보	피인용 횟수 : 22 인용 특허 : 3

초록 ▼

An apparatus and a method for making a reticle mask is disclosed. A reticle mask is made by the double pass method wherein scribe lines are first drawn on the reticle mask. Thereafter, a product die pattern is made in the reticle mask by a plurality of times. A plurality of alignment marks are associated with each product die pattern. The plurality of alignment marks are all written in the scribe line region. Thus, any deviation of the relative position of the product die pattern to the scribe line may be quantified.

대표청구항 ▼

A method of making a reticle mask having a plurality of spaced apart, product regions, each product region for use in the fabrication of integrated circuit devices and a plurality of border regions surrounding each product region, with a plurality of alignment marks in said border regions; said reticle mask having regions of one type of exposure and regions of another type of exposure, opposite to said one type of exposure, said method comprising the steps of: (a) exposing an unexposed mask to form a plurality of spaced apart product regions, of one type of exposure, and to form a plurality of first regions, said first regions congruent with and corresponding to said border regions, said first regions having areas of said another type of exposure, and a plurality of indicias of said one type of exposure, each of said indicias being positioned in a defined relationship with each of said product regions; then (b) exposing said mask to a product frame, said product frame having a product region, a plurality of first alignment marks outside of said product region positioned in said defined relationship with said product region, and a ring of said one type of exposure surrounding said product region and covering the rest of said product frame; said exposing step comprising: (i) positioning said product region of said product frame over one of said product regions of said mask and positioning said first alignment marks over said plurality of indicias of said mask; (ii) exposing said mask with said product frame; (iii) repeating the steps of (b)(1-2) by positioning another product frame over another product region, until all of said product regions and indicias have been exposed.

이 특허에 인용된 특허 (3) 인용/피인용 타임라인 분석

Isohata Junji (Tokyo JPX) Miyazaki Makoto (Yokohama JPX), Exposure apparatus.
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Michel Dieter (Traunstein DEX), Method and apparatus for generating exposure masks.
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이 특허를 인용한 특허 (22) 인용/피인용 타임라인 분석

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Lin, Feng-Lung; Wu, Kuan-Liang; Liang, Che-Rong; Tsai, Fei-Gwo, Hybrid multi-layer mask.
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Corbeij, Wilhelmus Maria; Van De Kerkhof, Marcus Adrianus; Kok, Haico Victor, Lithographic apparatus and device manufacturing method.
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Van De Kerkhof, Marcus Adrianus; De Kruif, Robertus Cornelis Martinus, Lithographic apparatus, distortion determining method, and patterning device.
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Ip Hiu F. ; Ma Ellick L., Mask structure having offset patterns for alignment.
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Koike,Kaoru; Moriya,Shigeru, Mask-making member and its production method, mask and its making method, exposure process, and fabrication method of semiconductor device.
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Nishimura, Takeyoshi, Method for manufacturing semiconductor device and exposure mask used in the same method.
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Fletcher Christopher L., Method for photo composition of large area integrated circuits.
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Lu, Andrew; Odiwo, Donald M.; Yerdon, Roger J., Method for printing marks on the edges of wafers.
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Brainerd Steve K. (Tigard OR) Rolfson J. Brett (Boise ID), Method of lithography using reticle pattern blinders.
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Christophe Pierrat, Multiple image reticle for forming layers.
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Tamada, Naohisa, Phase shift mask and semiconductor device fabricated with the phase shift mask.
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Leroux,Pierre, Self-compensating mark design for stepper alignment.
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Chen, Gong; Colclasure, Robert D., Semiconductor device and alignment method.
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Han, Dong-Hyun, Semiconductor wafer including guard ring patterns and process monitoring patterns.
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Templeton, Michael K.; Rangarajan, Bharath, System and method for facilitating wafer alignment by mitigating effects of reticle rotation on overlay.
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Schinella Richard D. (Saratoga CA) Chao Keith (San Jose CA), Use of reticle stitching to provide design flexibility.
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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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