[특허]Apparatus for heat-treating wafers

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Apparatus for heat-treating wafers 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	H05B-003/64
출원번호	US-0159404 (1988-02-11)
우선권정보	JP-0032070 (1987-02-14); JP-0218440 (1987-08-31)
발명자 / 주소	Muraoka Yusuke (Hazukashi JPX) Tamada Atsushi (Hazukashi JPX) Sakai Takamasa (Tenjinkita JPX) Haibara Hitoshi (Hazukashi JPX) Nakagawa Keiji (Hazukashi JPX)
출원인 / 주소	Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. (Kyoto JPX 03)
인용정보	피인용 횟수 : 8 인용 특허 : 2

초록 ▼

An apparatus for heat-treating wafers including: a cylindrical body having an infrared reflection film formed on an interior peripheral surface thereof; a furnace core tube disposed within the cylindrical body for accommodating therein the wafers; a heater element provided within the cylindrical body for heating the furnace core tube, the heater being positioned outwardly remotely from an exterior peripheral surface of the furnace core tube in a manner to surround the tube; and a plurality of insulating heat-resistant bar members provided within the cylindrical body and extending in a direction parallel to the central axis of the furnace core tube for supporting the heater element.

대표청구항 ▼

An apparatus for heat-treating wafers, comprising: a hollow cylindrical body having an infrared reflection film formed on an interior peripheral surface thereof; a furnace core tube disposed within said cylindrical body for accommodating wafers placed therein for heat-treatment; heating means provided within said cylinderical body for heating said furnace core tube, said heating means being positioned outwardly remote from an exterior peripheral surface of said furnace core tube in such a manner as to surround said tube; and a plurality of insulating heat-resistant bar members provided within said cylindrical body and extending outside said core tube in a direction parallel to an axis of said furnace core tube, said bar members supporting said heating means in a position inwardly remote from the interior peripheral surface of said cylindrical body.

이 특허에 인용된 특허 (2)

Pearce Charles W. (Emmaus PA) Schmidt Paul F. (Allentown PA), Diffusion furnace.
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Burkhart William H. (Room 190 ; 960 San Antonio Road Los Altos CA 94022), Food cooking machine.
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이 특허를 인용한 특허 (8)

Shim, Kyu-Hwan; Kim, Hong-Seung; Lee, Seung-Yun; Kang, Jin-Yeoung, Apparatus for perpendicular-type ultra vacuum chemical vapor deposition.
상세보기
Ichikawa, Takashi; Kobayashi, Makoto; Yamaga, Kenichi, Heat processing furnace and vertical-type heat processing apparatus.
상세보기
Kobayashi, Makoto; Yamaga, Kenichi; Sasaki, Akira; Ikeda, Daisuke; Koike, Takahiro, Heat treatment furnace and heat treatment apparatus.
상세보기
Johansson, Lars-Goran, Horizontal element arrangement means.
상세보기
Mezey ; Sr. James J., Methods and apparatus for thermally processing wafers.
상세보기
Zhao, Yonggao; Zhao, Wei; Chen, Guolong, Multi-level and vertical assembling type PTFE heater and methods of manufacture thereof.
상세보기
Bolton Douglas A. ; Wiesen Patrick W., Semiconductor thermal processor with recirculating heater exhaust cooling system.
상세보기
Kowalski Jeffrey M. ; Ratliff Christopher T. ; Koble ; Jr. Terry A. ; Pack Jon H. ; Yang Michael H., Thermal processing apparatus.
상세보기

관련 콘텐츠

특허 원문 보기

KIPRIS 원문보기

IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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