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High vacuum processing system and method 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-014/56
출원번호 US-0224450 (1988-07-25)
발명자 / 주소
  • Landau Richard F. (Londonderry NH) Millikin Jr. William E. (Acton MA) Puchacz Jerzy P. (Nashua NH) Reyes Manolito Q. (Nashua NH) Schadler Walter (Triesen LIX)
출원인 / 주소
  • Oerlikon-Buhrle U.S.A. Inc. (New York NY 02)
인용정보 피인용 횟수 : 23  인용 특허 : 4

초록

A novel method and machine are provided for processing workpieces at one or more work-stations under vacuum conditions. The machine comprises means for receiving at atmospheric pressure an object to be processed, an inlet lock that is connected to a vacuum manifold, at least one processing station t

대표청구항

Method of processing compact disks comprising the following steps: (a) delivering a disk to a disk carrier disposed in a disk loading station, said disk carrier having a larger diameter than said disk and having a sealing element at its periphery; (b) transferring said disk carrier and disk to a mas

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. Denton Peter R. (Cherry Hill NJ) Boyarsky David (Cherry Hill NJ), Apparatus for coating compact disks.
  2. Boyarsky David (Cherry Hill NJ) Vaughan Robert T. (Cheltenham PA), Apparatus for coating substrate devices.
  3. Boys Donald R. (Cupertino CA) Graves Walter E. (San Jose CA), Disk or wafer handling and coating system.
  4. Allen Ronald (San Jose CA) Chen Tu (Saratoga CA), Robotic disk handler system.

이 특허를 인용한 특허 (23)

  1. Costas Dan N., CD picker.
  2. Avi Tepman ; Donald J. K. Olgado ; Allen L. D'Ambra, Dual buffer chamber cluster tool for semiconductor wafer processing.
  3. Kraus, Joseph Arthur; Strassner, James David, Dual wafer load lock.
  4. Hashimoto Hajime (Kyoto JPX) Kubota Kazuo (Kyoto JPX) Inoue Daisuke (Kyoto JPX) Nogawa Syuichi (Kyoto JPX), Film forming apparatus.
  5. Gupta Anand ; Bhan Mohan ; Subrahmanyam Sudhakar, Film to tie up loose fluorine in the chamber after a clean process.
  6. Ding, Peijun; Xu, Zheng; Zhang, Hong; Tang, Xianmin; Gopalraja, Praburam; Rengarajan, Suraj; Forster, John C.; Fu, Jianming; Chiang, Tony; Yao, Gongda; Chen, Fusen E.; Chin, Barry L.; Kohara, Gene Y., Metal / metal nitride barrier layer for semiconductor device applications.
  7. Chandrasekaram Ramiah ; Jeffrey L. Young ; Neil L. Pagel, Method and apparatus for forming a borophosphosilicate film.
  8. Chiang, Tony; Yao, Gongda; Ding, Peijun; Chen, Fusen E.; Chin, Barry L.; Kohara, Gene Y.; Xu, Zheng; Zhang, Hong, Method for depositing a diffusion barrier layer and a metal conductive layer.
  9. Schertler Roman (Wolfurt ATX), Method for masking a workpiece and a vacuum treatment facility.
  10. Ding,Peijun; Xu,Zheng; Zhang,Hong; Tang,Xianmin; Gopalraja,Praburam; Rengarajan,Suraj; Forster,John C.; Fu,Jianming; Chiang,Tony; Yao,Gongda; Chen,Fusen E.; Chin,Barry L.; Kohara,Gene Y., Method of depositing a tantalum nitride/tantalum diffusion barrier layer system.
  11. Bright Nick ; Mooring Ben, Modular architecture for semiconductor wafer fabrication equipment.
  12. Boitnott Charles A. ; Caughran James W. ; Egbert Steve, Modular process system.
  13. Tepman Avi, Monolith processing system platform.
  14. Todd Craig B. ; Yu James E., Process chamber lid.
  15. Kim Daehwan D., Process chamber tray.
  16. Bramhall ; Jr. Robert B. (Gloucester MA) Cloutier Richard M. (Salisbury MA) Laber Albert P. (Revere MA) Muka Richard S. (Topsfield MA), Sealing apparatus for a vacuum processing system.
  17. Boitnott Charles A. ; Caughran James W. ; Egbert Steve, Semiconductor wafer processing carousel.
  18. Guo Ted ; Cohen Barney M. ; Verma Amrita, Thermal post-deposition treatment of halogen-doped films to improve film stability and reduce halogen migration to interconnect layers.
  19. Tepman Avi, Transfer chamber.
  20. Strasser Gregor (Vaduz LIX) Zhrer Gerald (Weite CHX) Schertler Roman (Wolfurt ATX) Fischer Heinrich (Triesen LIX), Transport system for conveying workpiece between first and second media.
  21. Kato, Shigekazu; Nishihata, Kouji; Tsubone, Tsunehiko; Itou, Atsushi, Vacuum processing apparatus and operating method therefor.
  22. Kato,Shigekazu; Nishihata,Kouji; Tsubone,Tsunehiko; Itou,Atsushi, Vacuum processing apparatus and operating method therefor.
  23. Soraoka, Minoru; Yoshioka, Ken; Kawasaki, Yoshinao, Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same.
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