[특허]Microwave ion source

[미국특허] Microwave ion source 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	H01J-007/24
출원번호	US-0210137 (1988-06-27)
우선권정보	JP-0118258 (1984-06-11)
발명자 / 주소	Torii Yasuhiro (Kanagawa JPX) Matsuo Seitaro (Kanagawa JPX) Watanabe Iwao (Kanagawa JPX) Shimada Masaru (Kanagawa JPX)
출원인 / 주소	Nippon Telegraph and Telephone Corporation (Tokyo JPX 07)
인용정보	피인용 횟수 : 14 인용 특허 : 8

초록 ▼

In a microwave ion source utilizing a microwave and a magnetic field, a microwave introducing window has a multilayer structure of plates with different dielectric constants, a magnetic circuit is arranged to generate a magnetic field having a higher intensity than that defined by ECR (Electron Cyclotron Resonance) conditions so as to form a narrow high-density plasma, an ion extraction electrode has an ion extraction window whose contour falls within a center region of the narrow high-density plasma.

대표청구항 ▼

A microwave ion source utilizing a microwave and a magnetic field, comprising: a microwave waveguide, a plasma generation chamber having a cylindrical or rectangular cavity and having an inner wall, said chamber having a cross-section which corresponds to a plasma generation region, said plasma generation region being wider than that of said microwave waveguide, a microwave introducing window disposed at an inlet port of said plasma generation chamber for introduction of a microwave from said microwave waveguide, said microwave being introduced to said plasma generation chamber through said microwave introducing window; a magnetic circuit, arranged outside said plasma generation chamber, for generating in said plasma generation chamber a magnetic field having a higher intensity than that given by electron cyclotron resonance conditions so as to form a narrow high-density plasma portion in the center of said plasma generation region around the central axis of said plasma generation chamber, said magnetic circuit including a plurality of coils surrounding said plasma generation chamber along a longitudinal direction thereof such that said magnetic field is generated by said plurality of coils at the inlet port of said plasma generation chamber, said magnetic field being stronger near said microwave introducing window and weaker near an outlet port of said chamber such that the intensity of said magnetic field at the inlet port along the lateral direction is substantially uniform, and an ion extraction electrode system which has an ion extraction window whose contour falls within a restricted center region of said narrow high density plasma part of said plasma generation region and whose diameter is smaller than that of said plasma generation region, whereby said high density plasma portion is generated about the center portion of the plasma generation region to thereby extract a high-density ion beam and reduce the quantity of plasma which is contaminated by contact with the inner wall of said plasma generation chamber.

이 특허에 인용된 특허 (8) 인용/피인용 타임라인 분석

Moeller Charles P. (Del Mar CA), Cyclotron resonance maser amplifier and waveguide window.
상세보기
Asmussen Jes (Okemos MI) Root Joseph J. (East Lansing MI), Ion generating apparatus and method for the use thereof.
상세보기
Tokiguchi Katsumi (Machida JPX) Koike Hidemi (Tokorozawa JPX) Sakudo Noriyuki (Ome JPX) Okada Osami (Chofu JPX) Ninomiya Ken (Tokyo JPX) Ozasa Susumu (Kashiwa JPX), Ion source.
상세보기
Koike Hidemi (Tokorozawa JPX) Sakudo Noriyuki (Ohme JPX) Tokiguchi Katsumi (Hachioji JPX) Kanomata Ichiro (Fuchu JPX), Microwave discharge ion source.
상세보기
Sakudo Noriyuki (Ome JA) Tokiguchi Katsumi (Kokubunji JA) Kanomata Ichiro (Fuchu JA), Microwave discharge ion source.
상세보기
Matsuda Koji (Shiga JPX) Takagi Toshinori (Kyoto JPX) Ishikawa Junzo (Kyoto JPX), Microwave ion source.
상세보기
Sakudo Noriyuki (Ohme JPX) Tokiguchi Katsumi (Hachioji JPX) Koike Hidemi (Tokorozawa JPX) Kanomata Ichiro (Fuchu JPX) Nakashima Humihiko (Katsuta JPX), Microwave plasma ion source.
상세보기
Jacquot Bernard (Saint Egreve FRX), Multicharged ion source with several electron cyclotron resonance zones.
상세보기

이 특허를 인용한 특허 (14) 인용/피인용 타임라인 분석

Holmes Andrew J. T. (Abingdon GBX), Charged particle control device.
상세보기
Engemann Jurgen (Wuppertal DEX), Device for the generation of electrically charged and/or uncharged particles.
상세보기
Mhl Wolfgang (Kirchheim DEX), Filamentless magnetron-ion source and a process using it.
상세보기
Oechsner Hans (Vogelweher Strasse 7 B D-6750 Kaiserslautern DEX), High-frequency ion source.
상세보기
Kubota,Naoki; Horita,Akihiro, Ion source with uniformity of radial distribution of ion beam intensity.
상세보기
Horsky, Thomas N.; Milgate, III, Robert W.; Sacco, Jr., George P.; Jacobson, Dale Conrad; Krull, Wade Allen, Method and apparatus for extracting ions from an ion source for use in ion implantation.
상세보기
Horsky, Thomas N.; Milgate, III, Robert W.; Sacco, Jr., George P.; Jacobson, Dale Conrad; Krull, Wade Allen, Method and apparatus for extracting ions from an ion source for use in ion implantation.
상세보기
Hayes, Alan V.; Yevtukhov, Rustam; Kanarov, Viktor; Druz, Boris L., Methods of operating an electromagnet of an ion source.
상세보기
Holber William M. (Cambridge MA) Smith Donald K. (Belmont MA) Besen Matthew M. (Tewksbury MA) Fitzner Matthew P. (Nashua NH) Georgelis Eric J. (Canton MA), Microwave plasma applicator with a helical fluid cooling channel surrounding a microwave transparent discharge tube.
상세보기
Rosenthal, Glenn B., Particle beam source apparatus, system and method.
상세보기
Katzschner Werner (Kleinkahl-Grosslaudenbach DEX) Eichholz Stefan (Kiel DEX) Geisler Michael (Wachtersbach DEX) Jung Michael (Kahl DEX), Particle source for a reactive ion beam etching or plasma deposition installation.
상세보기
Lob, Horst, Radio frequency ion beam source.
상세보기
Capacci Marco (Signa ITX) Noci Giovanni E. (Bagno a Rippoli ITX), Radio-frequency plasma source.
상세보기
Fujiwara Nobuo (Itami JPX) Kawai Kenji (Itami JPX) Akazawa Moriaki (Itami JPX) Shibano Teruo (Itami JPX) Ishida Tomoaki (Itami JPX) Nishioka Kyusaku (Itami JPX), Semiconductor wafer treating device utilizing a plasma.
상세보기

활용도 분석정보

상세보기

다운로드

내보내기

활용도 Top5 특허

해당 특허가 속한 카테고리에서 활용도가 높은 상위 5개 콘텐츠를 보여줍니다.
더보기 버튼을 클릭하시면 더 많은 관련자료를 살펴볼 수 있습니다.

IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
저장형식	Text(ASCII format) Excel format PIAS분석(.xls)
메일정보	받는사람 (필수) @ 보내는사람 (선택) @ 제목 내용 KISTI 검색결과 이메일 서비스
안내	총 건의 자료가 검색되었습니다. 다운받으실 자료의 인덱스를 입력하세요. (1-10,000) 검색결과의 순서대로 최대 10,000건 까지 다운로드가 가능합니다. 데이타가 많을 경우 속도가 느려질 수 있습니다.(최대 2~3분 소요) 다운로드 파일은 UTF-8 형태로 저장됩니다. 파일의 내용이 제대로 보이지 않을실 때는 웹브라우저 상단의 보기 -> 인코딩 -> 자동선택 여부를 확인하십시오. ~ Text(ASCII format) Excel format

연합인증

[미국특허] Microwave ion source 원문보기

초록 ▼

대표청구항 ▼

연구과제 타임라인

이 특허에 인용된 특허 (8) 인용/피인용 타임라인 분석

이 특허를 인용한 특허 (14) 인용/피인용 타임라인 분석

활용도 분석정보

활용도 Top5 특허

관련 콘텐츠

특허 원문 보기

IPC 상위 출원인

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

선택된 텍스트

연합인증

[미국특허] Microwave ion source 원문보기

초록 ▼

대표청구항 ▼

연구과제 타임라인

전체(0) 논문(0) 특허(0) 보고서(0)

전체(0) 논문(0) 특허(0) 보고서(0)

이 특허에 인용된 특허 (8) 인용/피인용 타임라인 분석

이 특허를 인용한 특허 (14) 인용/피인용 타임라인 분석

활용도 분석정보

활용도 Top5 특허 더보기

관련 콘텐츠

특허 원문 보기

IPC 상위 출원인

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

선택된 텍스트

활용도 Top5 특허