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High magnification reflecting microscope objective having a dual magnification mode and zoom magnification capability 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G02B-017/06
  • G02B-005/10
  • G02B-023/06
출원번호 US-0100789 (1987-09-25)
발명자 / 주소
  • Shafer David R. (Fairfield CT) Aresco Carmelo J. (Cromwell CT)
출원인 / 주소
  • Spectra-Tech, Inc. (Stamford CT 02)
인용정보 피인용 횟수 : 17  인용 특허 : 3

초록

A modified Schwarzschild Casegrainian objective reflects radiant energy between the primary and secondary mirror two times to form a four reflection optical path. The four reflection optical path increases the magnification of the objective without making the working distance that separates the seco

대표청구항

A reflecting microscope objective selectively having a two reflection or a four reflection magnification mode, comprising: a remote field stop positioned along an optical axis; a primary mirror having a concave spherical curvature and being positioned along the optical axis, said primary mirror havi

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. Sherman ; Jr. Benjamin F. (6329 Mori St. McLean VA 22101), Catoptric system for simultaneous concentration of light, laser, and other type paraxial rays into beams.
  2. Michelet Guy A. (Paris FRX) Bret Georges G. (Verrieres FRX), Objective having a variable focal length.
  3. Sting Donald W. (New Canaan CT) Messerschmidt Robert G. (Westport CT), Reflective beam splitting objective.

이 특허를 인용한 특허 (17)

  1. Gelernt, Barry; Milster, Thomas D., Apparatus and method for deep ultraviolet optical microscopy.
  2. Nakano, Masatsugu; Sasian-Alvarado, Jose Manuel; Elazhary, Tamer T., Catadioptric optical system with multi-reflection element for high numerical aperture imaging.
  3. Hamilton, Brett J; Stoker, David S, Dual magnification apparatus and system for examining a single objective in a scanning optical microscope using two wavelengths of light.
  4. Hamilton, Brett J; Stoker, David S, Dual magnification apparatus and system for examining a single objective in a scanning optical microscope using two wavelengths of light.
  5. Chuang, Yung-Ho; Solarz, Richard W.; Shafer, David R.; Tsai, Bin-Ming Benjamin; Brown, David L., EUV high throughput inspection system for defect detection on patterned EUV masks, mask blanks, and wafers.
  6. Barry Jonathan D., Extendable focal length lamp.
  7. Mueller, Ralf; Mann, Hans-Juergen, Imaging optical system.
  8. Gelernt, Barry; Milster, Thomas D.; Jota, Thiago, Interferometric systems and methods.
  9. Banine,Vadim Yevgenyevich, Lithographic projection apparatus with collector including concave and convex mirrors.
  10. Fischer Jorg Achim,DEX ; Jacobsen Thomas,DEX, Method and device for removing light.
  11. Mann, Hans-J?rgen; Ulrich, Wilhelm, Objective with pupil obscuration.
  12. Mann,Hans Jurgen; Ulrich,Wilhelm, Objective with pupil obscuration.
  13. Mickan, Uwe; Van Dijsseldonk, Antonius Johannes Josephus, Optical apparatus.
  14. Epple, Alexander; Mizkewicz, Ella; Feldmann, Heiko, Optical imaging device and imaging method for microscopy.
  15. Mann, Hans-Juergen; Feldmann, Heiko, Optical imaging device and imaging method for microscopy.
  16. Comstock, II, Lovell E; Lathrop, Michael D; Myrick, Bruce H, Precision optical mount.
  17. Mantravadi Murty Venkata ; Rose Dennis Hilliard ; Hall James Timothy ; Richman Dennis Carl, Tilted primary clamshell lens laser scanner.
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