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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0163164 (1988-02-25) |
우선권정보 | JP-0025232 (1985-02-14); JP-0029286 (1985-02-19); JP-0034413 (1985-02-25) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 7 인용 특허 : 16 |
In a direct-heated flow measuring apparatus including a substrate having a film resistance pattern and a supporting member for supporting the substrate, the supporting member has good heat dissipation characteristics. Provided between the substrate and the supporting member is a heat transfer thrott
A direct-heated flow measuring apparatus for measuring the flow rate within a passage comprising; a planar substrate that is formed of monocrystalline silicon; a film resistance pattern formed partially at said substrate; a supporting plate, fixed to said passage, for supporting said substrate, said
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