[특허]Apparatus and method for enhanced chemical processing in high pressure and atmospheric plasmas produced by high frequenc

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	H01J-007/46 H01J-019/80 H01J-019/12
출원번호	US-0060048 (1987-06-08)
발명자 / 주소	Efthimion Philip C. (Bedminister NJ) Helfritch Dennis J. (Flemington NJ)
출원인 / 주소	Research-Cottrell, Inc. (Somerville NJ 02)
인용정보	피인용 횟수 : 56 인용 특허 : 10

초록 ▼

An apparatus and method for creating high temperature plasmas for enhanced chemical processing of gaseous fluids, toxic chemicals, and the like, at a wide range of pressures, especially at atmospheric and high pressures includes an electro-magnetic resonator cavity, preferably a reentrant cavity, and a wave guiding structure which connects an electro-magnetic source to the cavity. The cavity includes an intake port and an exhaust port, each having apertures in the conductive walls of the cavity sufficient for the intake of the gaseous fluids and for the discharge of the processed gaseous fluids. The apertures are sufficiently small to prevent the leakage of the electro-magnetic radiation from the cavity. Gaseous fluid flowing from the direction of the electro-magnetic source through the guiding wave structure and into the cavity acts on the plasma to push it away from the guiding wave structure and the electro-magnetic source. The gaseous fluid flow confines the high temperature plasma inside the cavity and allows complete chemical processing of the gaseous fluids at a wide range of pressures.

대표청구항 ▼

An apparatus which creates a plasma for chemical processing of gaseous fluid comprising: (a) an electro-magnetic resonator cavity having first and second conductive walls and a resonant frequency; (b) an electro-magnetic energy source which produces electro-magnetic energy having a frequency corresponding to said resonant frequency and a power level sufficient for breaking down said gaseous fluid and creating a plasma within said electro-magnetic resonator cavity; (c) an electro-magnetic wave guiding structure connecting said electro-magnetic energy source to the first wall of said electro-magnetic cavity, the first wall having an aperture therein and the wave guiding structure coupling said electro-magnetic energy into an interior of said electro-magnetic cavity through said aperture; (d) the wave guiding structure having an intake port for introducing said gaseous fluid into said wave guiding structure; (e) the second wall of the resonator cavity having an exhaust port for discharging processed gaseous fluid in the form of a plasma from said cavity; and (f) plasma confinement means for causing said gaseous fluid to flow into said electro-magnetic resonator cavity through said aperture along with the electro-magnetic energy for confining and stabilizing said plasma within said electro-magnetic resonator cavity.

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