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[미국특허] Stage mechanism 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01B-005/00
출원번호 US-0125552 (1987-11-25)
우선권정보 JP-0287072 (1986-12-02)
발명자 / 주소
  • Ohtsuka Masaru (Yokohama JPX)
출원인 / 주소
  • Canon Kabushiki Kaisha (Tokyo JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 46  인용 특허 : 2

초록 ▼

A stage mechanism usable in a semiconductor device manufacturing apparatus, for carrying and positioning a semiconductor wafer with high accuracy and at high speed, is disclosed. The stage device includes a reference portion and a stage portion resiliently supported by the reference portion. Further

대표청구항 ▼

A stage mechanism, comprising: a reference portion; a stage portion displaceably supported by said reference portion; a drive source for displacing in a predetermined direction said stage portion relative to said reference portion; and a vibration attenuating member provided between said reference p

이 특허에 인용된 특허 (2) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Barsky Samuel M. (Wakefield MA), Microlithographic reticle positioning system.
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  2. Oku Kenichi (Toyonaka JPX) Suzuki Masaki (Hirakata JPX), Positioning table.
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이 특허를 인용한 특허 (46) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Nesch,Ivan N.; Morrison,Timothy I., Apparatus and method for precise angular positioning.
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  2. Lee Martin E., Double flexure support for stage drive coil.
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  3. Novak W. Thomas, Dual guide beam stage mechanism with yaw control.
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  4. Ebihara Akimitsu,JPX ; Novak Thomas, Electromagnetic alignment and scanning apparatus.
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  5. Ebihara Akimitsu,JPX ; Novak Thomas, Electromagnetic alignment and scanning apparatus.
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  6. Ebihara Akimitsu,JPX ; Novak Thomas, Electromagnetic alignment and scanning apparatus.
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  7. Ebihara Akimitsu,JPX ; Novak Thomas, Electromagnetic alignment and scanning apparatus.
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  8. Ebihara Akimitsu,JPX ; Novak Thomas, Electromagnetic alignment and scanning apparatus.
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  9. Ebihara Akimitsu,JPX ; Novak Thomas, Electromagnetic alignment and scanning apparatus.
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  10. Ebihara, Akimitsu, Electromagnetic alignment and scanning apparatus.
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  11. Ebihara, Akimitsu; Novak, Thomas, Electromagnetic alignment and scanning apparatus.
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  12. Ebihara, Akimitsu; Novak, Thomas, Electromagnetic alignment and scanning apparatus.
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  13. Ebihara, Akimitsu; Novak, Thomas, Electromagnetic alignment and scanning apparatus.
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  14. Ebihara, Akimitsu; Novak, Thomas, Electromagnetic alignment and scanning apparatus.
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  15. Ebihara,Akimitsu; Novak,Thomas, Electromagnetic alignment and scanning apparatus.
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  16. Lee Martin E., Exposure apparatus and method utilizing isolated reaction frame.
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  17. Lee, Martin E., Exposure apparatus and method utilizing isolated reaction frame.
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  18. Lee Martin E., Exposure apparatus having dynamically isolated reaction frame.
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  19. Lee Martin E., Exposure apparatus having dynamically isolated reaction frame.
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  20. Lee Martin E., Exposure apparatus having dynamically isolated reaction frame.
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  21. Lee Martin E., Exposure apparatus having dynamically isolated support structure.
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  22. Lee Martin E., Exposure apparatus having reaction frame.
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  23. Lee Martin E., Exposure method, and method of making exposure apparatus having dynamically isolated reaction frame.
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  24. Lee Martin E., Exposure method, and method of making exposure apparatus having dynamically isolated reaction frame.
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  25. Lee Martin E., Exposure method, and method of making exposure apparatus having dynamically isolated support structure.
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  26. Lee Martin E., Guideless stage with isolated reaction frame.
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  27. Lee, Martin E., Guideless stage with isolated reaction stage.
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  28. Lee Martin E., Lithography apparatus with movable stage and mechanical isolation of stage drive.
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  29. Lee Martin E., Method for making and operating an exposure apparatus having a reaction frame.
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  30. Lee Martin E., Method for making apparatus with dynamic support structure isolation and exposure method.
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  31. Lee Martin E., Method of making exposure apparatus with dynamically isolated reaction frame.
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  32. Lee, Martin E., Method of making exposure apparatus with dynamically isolated reaction frame.
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  33. Heilig, John Andrew; Kafai, Bahram Berj; Trammell, Glenn Sterling, Multi-axes, sub-micron positioner.
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  34. Heilig,John Andrew; Kafai,Bahram Berj; Trammell,Glenn Sterling, Multi-axes, sub-micron positioner.
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  35. Dhese, Keith; Ristea, Alin, Parallellism conservation mechanism for nanopositioner.
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  36. Lee, Martin E., Positioning device having dynamically isolated frame, and lithographic device provided with such a positioning device.
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  37. Lee,Martin E., Positioning device having dynamically isolated frame, and lithographic device provided with such a positioning device.
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  38. Lee,Martin E., Positioning device having dynamically isolated frame, and lithographic device provided with such a positioning device.
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  39. van Engelen, Gerard; van Dijk, Cornelis D.; van Kimmenade, Johannes M. M.; van Eijk, Jan, Positioning device with a vibration-free object table, and lithographic device provided with such a positioning device.
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  40. Novak W. Thomas (Hillsborough CA) Premji Zahirudeen (Boulder CO) Nayak Uday G. (San Jose CA) Ebihara Akimitsu (San Mateo CA), Precision motion stage with single guide beam and follower stage.
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  41. Novak W. Thomas ; Premji Zahirudeen ; Nayak Uday G. ; Ebihara Akimitsu, Precision motion stage with single guide beam and follower stage.
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  42. Lee, Kwen-Jin, Precision motion transducer utilizing elasticity ratio.
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  43. Lee,Suk won; Ahn,Byung il; Kang,Dong woo; Kim,Ki hyun; Gweon,Dae gab; Kim,Dong min, Stage apparatus.
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  44. Lee Hyung-seok,KRX, Stage apparatus having rotary table.
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  45. Swierkowski Steve P. ; Davidson James C. ; Balch Joseph W., Vacuum fusion bonded glass plates having microstructures thereon.
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  46. Lee Martin E., Window frame-guided stage mechanism.
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