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Thin film coating process using an inductively coupled plasma 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B05D-003/06
출원번호 US-0199286 (1988-08-23)
발명자 / 주소
  • Kniseley Richard N. (Ames IA) Schmidt Frederick A. (Ames IA) Merkle Brian D. (Ames IA)
출원인 / 주소
  • Iowa State University Reserach Foundation, Inc. (Ames IA 02)
인용정보 피인용 횟수 : 29  인용 특허 : 4

초록

Thin coatings of normally solid materials are applied to target substrates using an inductively coupled plasma. Particles of the coating material are vaporized by plasma heating, and pass through an orifice to a first vacuum zone in which the particles are accelerated to a velocity greater than Mach

대표청구항

The process for applying a coating of a normally solid material to a target substrate, comprising: (a) within a zone at essentially atmospheric pressure generating an inductively coupled toroidal plasma from a monatomic gas, said generated plasma being in the form of an annulus with a plasma-free ce

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. Browning James A. (P.O. Box 6 Hanover NH 03755), Abrasive blast and flame spray system with particle entry into accelerating stream at quiescent zone thereof.
  2. Douglas Donald J. (Toronto CAX), Method and apparatus for sampling a plasma into a vacuum chamber.
  3. Guyonnet Jean-Francis (Paris FRX), Process for making linings for friction operated apparatus.
  4. Muehlberger Erich (San Clemente CA) Kremith Roland D. (Newport Beach CA), System and method for plasma coating.

이 특허를 인용한 특허 (29)

  1. Carr,Jeffrey W., Apparatus and method for atmospheric pressure reactive atom plasma processing for shaping of damage free surfaces.
  2. Morrisroe, Peter, Boost devices and methods of using them.
  3. Morrisroe, Peter, Devices and systems including a boost device.
  4. Morrisroe, Peter, Devices and systems including a boost device.
  5. Morrisroe, Peter, Devices and systems including a boost device.
  6. Hosch, Jimmy W.; Goeckner, Matthew J.; Whelan, Mike; Kueny, Andrew Weeks; Harvey, Kenneth C.; Thamban, P.L. Stephan, Electron beam exciter for use in chemical analysis in processing systems.
  7. Morrisroe, Peter J, Induction device.
  8. Morrisroe, Peter J, Induction device.
  9. Morrisroe, Peter J., Induction device.
  10. Chen,Xing; Holber,William M.; Cowe,Andrew Barnett; Georgelis,Eric; Bystyak,Ilya M.; Bortkiewicz,Andrzej, Inductively-coupled torodial plasma source.
  11. Chen, Xing; Holber, William M.; Cowe, Andrew Barnett; Georgelis, Eric; Bystyak, Ilya M.; Bortkiewicz, Andrzej, Inductively-coupled toroidal plasma source.
  12. Smith, Donald K.; Chen, Xing; Holber, William M.; Georgelis, Eric, Inductively-coupled toroidal plasma source.
  13. Holber, William M.; Smith, John A.; Chen, Xing; Smith, Donald K., Method and apparatus for processing metal bearing gases.
  14. Holber, William M.; Smith, John A.; Chen, Xing; Smith, Donald K., Method and apparatus for processing metal bearing gases.
  15. Holber, William M.; Smith, John A.; Chen, Xing; Smith, Donald K., Method and apparatus for processing metal bearing gases.
  16. Carr, Jeffrey W., Method for atmospheric pressure reactive atom plasma processing for surface modification.
  17. Okumura, Tomohiro; Suemasu, Satoshi, Plasma processing apparatus and method, and method of manufacturing electronic device.
  18. Bussing Thomas R. A. ; Ting Joseph M., Pulse detonation synthesis.
  19. Keshner,Marvin S; Jackson,Warren B.; Nauka,Krzysztof, Roll-vortex plasma chemical vapor deposition method.
  20. Gitzhofer Franois (Sherbrooke CAX) Bouyer Etienne (Sherbrooke CAX) Boulos Maher I. (Sherbrooke CAX), Suspension plasma spray.
  21. Arai Michio,JPX, Thermal plasma annealing system, and annealing process.
  22. Morrisroe, Peter, Torches and methods of using them.
  23. Morrisroe, Peter J, Torches and methods of using them.
  24. Donald K. Smith ; Xing Chen ; William M. Holber ; Eric Georgelis, Toroidal low-field reactive gas source.
  25. Donald K. Smith ; Xing Chen ; William M. Holber ; Eric Georgelis, Toroidal low-field reactive gas source.
  26. Smith, Donald K.; Chen, Xing; Holber, William M.; Georgelis, Eric, Toroidal low-field reactive gas source.
  27. Smith, Donald K.; Chen, Xing; Holber, William M.; Georgelis, Eric, Toroidal low-field reactive gas source.
  28. Smith, Donald K.; Chen, Xing; Holber, William M.; Georgelis, Eric, Toroidal low-field reactive gas source.
  29. Smith,Donald K.; Chen,Xing; Holber,William M.; Georgelis,Eric, Toroidal low-field reactive gas source.
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