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[미국특허] TFEL device having multiple layer insulators 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H05B-033/12
출원번호 US-0221440 (1988-07-19)
발명자 / 주소
  • Sun Sey-Shing (Beaverton OR)
출원인 / 주소
  • Planar Systems, Inc. (Beaverton OR 02)
인용정보 피인용 횟수 : 26  인용 특허 : 4

초록

A structure for a thin-film electroluminescent (TFEL) device includes an EL phosphor layer sandwiched between a pair of insulator stacks, at least one of the stacks including a thin layer of silicon oxynitride in direct contact with the last grown side of the phosphor layer and a second thicker laye

대표청구항

A thin film electroluminescent laminate comprising: (a) a thin film layer of electroluminescent material; (b) a first insulator stack comprising a high capacitance insulator layer and a thin film layer of silicon oxynitride, the silicon oxynitride layer being placed in contact with a first side of t

이 특허에 인용된 특허 (4) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Endo Yoshihiro (Nara JPX) Yamashita Takuo (Tenri JPX) Ogawa Ikuo (Yamatokoriyama JPX), Method of manufacturing thin-film electroluminescent display panel.
  2. Mizukami Etsuo (Tenri JPX) Kishishita Hiroshi (Nara JPX) Kawaguchi Masashi (Nara JPX) Endo Yoshihiro (Osaka JPX) Isaka Kinichi (Tenri JPX), Oxygen atom containing film for a thin-film electroluminescent element.
  3. Levinson Mark (Sudbury MA), Thin film electroluminescent device.
  4. Fujita, Yosuke; Tohda, Takao; Matsuoka, Tomizo; Abe, Atsushi; Nitta, Tsuneharu, Thin film electroluminescent element.

이 특허를 인용한 특허 (26) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Liu,Guo, Aluminum nitride passivated phosphors for electroluminescent displays.
  2. Wu, Xingwei; Kupsky, George A., Combined substrate and dielectric layer component for use in an electroluminescent laminate.
  3. Potter Michael D., Dual carrier display device.
  4. Potter Michael D., Dual carrier display device.
  5. Bellmann, Erika; Savvateev, Vadim; Wolk, Martin B.; Hsu, Yong; McCormick, Fred B.; Staral, John S.; Huynh, Khanh T., Electroluminescent devices and methods of making electroluminescent devices including a color conversion element.
  6. Wolk, Martin B.; Brott, Robert L.; Hoffend, Jr., Thomas R., Electroluminescent devices and methods of making electroluminescent devices including an optical spacer.
  7. Wolk, Martin B; Brott, Robert L.; Hoffend, Thomas R., Electroluminescent devices and methods of making electroluminescent devices including an optical spacer.
  8. Wu Xingwei (Edmonton CAX) Stiles James Alexander Robert (Edmonton CAX) Foo Ken Kok (Edmonton CAX) Bailey Phillip (Edmonton CAX), Electroluminescent laminate and a process for forming address lines therein.
  9. Wu, Xingwei; Seale, Daniel Joseph; Liu, Guo; Carkner, Donald Edward; Doxsee, Daniel; Kupsky, George A.; Westcott, Michael Roger; Lovell, David Robin, Electroluminescent laminate with patterned phosphor structure and thick film dielectric with improved dielectric properties.
  10. Budzilek Russell A. (Bridgeport CT) Monarchie Dominick L. (Norwalk CT) Podoba Myroslaw (Wallingford CT) Swatson Richard R. (Trumbull CT), High contrast TFEL display in which light from the transparent phosphor layer is reflected by an electrode layer and the.
  11. Brunner, Herbert; Fiedler, Tim; Jermann, Frank; Zachau, Martin, High-efficiency led-based illumination system with improved color rendering.
  12. Fiedler, Tim; Jermann, Frank, Highly efficient luminous substance.
  13. Han,In taek, Inorganic electroluminescent device.
  14. Li, Wu; Xin, Yongbao; Westcott, Michael R., Insertion layer for thick film electroluminescent displays.
  15. Moore, John T., Low dielectric silicon oxynitride spacer films and devices incorporating such films.
  16. Wu, Xingwei; Seale, Daniel Joseph; Carkner, Donald Edward; Westcott, Michael Roger; Lovell, David Robin, Method of forming a patterned phosphor structure for an electroluminescent laminate.
  17. Wu,Xingwei; Kupsky,George A., Method of forming a thick film dielectric layer in an electroluminescent laminate.
  18. Moore, John T., Method of forming low dielectric silicon oxynitride spacer films highly selective of etchants.
  19. Moore, John T., Method of forming low dielectric silicon oxynitride spacer films highly selective to etchants.
  20. Adrian Kitai CA; Kenneth Cook CA, Oxide phosphor electroluminescent laminate.
  21. Wu Xingwei (Edmonton CAX) Stiles James Alexander Robert (Edmonton CAX) Foo Ken Kok (Edmonton CAX) Bailey Phillip (Edmonton CAX), Process for laser scribing a pattern in a planar laminate.
  22. Yamashita, Kenya; Kitabatake, Makoto; Kusumoto, Osamu; Takahashi, Kunimasa; Uchida, Masao; Miyanaga, Ryoko, Silicon carbide-oxide layered structure, production method thereof, and semiconductor device.
  23. Kosyachkov,Alexander, Silicon oxynitride passivated rare earth activated thioaluminate phosphors for electroluminescent displays.
  24. Lowery, Christopher H., Stenciling phosphor layers on light emitting diodes.
  25. Lowery,Christopher H., Stenciling phosphor layers on light emitting diodes.
  26. Sey-Shing Sun ; Michael S. Bowen, Thin film electroluminescent device.

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