[특허]Microcapsules and light-sensitive recording material using the same

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B01J-013/02 B32B-027/34 G03C-001/72
출원번호	US-0049366 (1987-05-14)
우선권정보	JP-0109747 (1986-05-14)
발명자 / 주소	Aoai Toshiaki (Shizuoka JPX) Aotani Yoshimasa (Shizuoka JPX)
출원인 / 주소	Fuji Photo Film Co., Ltd. (Kanagawa JPX 03)
인용정보	피인용 횟수 : 11 인용 특허 : 9

초록 ▼

Microcapsules are disclosed containing (a) a vinyl compound which has at least two polymerizable, ethylenically unsaturated groups linked to each other through a linking group comprising a chemical bond capable of being split by the action of an acid, (b) a thermal polymerization initiator, and (c) one or more compounds capable of producing acid when irradiated with actinic radiation. A light-sensitive recording material is also disclosed, which has on its support the above-described microcapsules or a thermally cured product thereof.

대표청구항 ▼

Microcapsules containing (a) a vinyl compound which has at least two polymerizable, ethylenically unsaturated groups linked to each other through a linking group comprising a chemical bond capable of being split by the action of an acid, (b) a thermal polymerization initiator, and (c) one or more compounds capable of producing acid when irradiated with actinic radiation. A light-sensitive recording material which has on its support microcapsules containing (a) a vinyl compound represented by formula (I) or (II) [Figure] (I) [Figure] (II) wherein R1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an unsubstituted or substituted alkyl group; R2 and R3 each represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl, alkenyl, aryl, or aralkyl group, or －OR5; R4 represents an unsubstituted or substituted n-valent aliphatic or aromatic hydrocarbon; R5 represents an unsubstituted or substituted alkyl, aryl, or aralkyl group; A represents a single chemical bond, [Figure] R6 represents an unsubstituted or substituted divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon; R7 represents a hydrogen atom, an unsubstituted or substituted alkyl, aryl, or aralkyl group, or －CO－R8; R8 represents an unsubstituted or substitited alkyl, aryl, or aralkyl group; m represents an integer of from 2 to 4; and n represents an integer of 2 or more, (b) a thermal polymerization initiator, and (c) one or more compounds capable of producing acid when irradiated by actinic radiation, or a thermally cured product of said microcapsules.

이 특허에 인용된 특허 (9) 인용/피인용 타임라인 분석

Crivello James V. (Clifton Park NY), Block polymer compositions.
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Aoai Toshiaki (Kanagawa JPX) Kamiya Akihiko (Kanagawa JPX), Photo-solubilizable composition admixture with radiation sensitive acid producing compound and silyl ether group contain.
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Watanabe Akio (Shizuoka JPX) Washizu Shintaro (Shizuoka JPX) Shinozaki Fumiaki (Shizuoka JPX) Ishikawa Shun-ichi (Kanagawa JPX) Aoai Toshiaki (Kanagawa JPX), Photodegradable microcapsules.
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Hiraishi Shigetoshi (Tokyo JPX) Morishita Sadao (Ibaraki JPX) Matsushita Toshihiko (Funabashi JPX), Photosetting microcapsules and photo- and pressure-sensitive recording sheet.
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Aoai Toshiaki (Kanagawa JPX), Photosolubilizable composition.
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Aoai Toshiaki (Kanagawa JPX), Photosolubilizable composition.
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Aoai Toshiaki (Kanagawa JPX), Photosolubilizable composition with silyl ether or silyl ester compound.
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Sanders Frederick W. (Chillicothe OH) Hillenbrand Gary F. (Chillicothe OH) Arney Jonathan S. (Chillicothe OH) Wright Richard F. (Chillicothe OH), Transfer imaging system.
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Sanders, Frederick W., Transfer imaging system.
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이 특허를 인용한 특허 (11) 인용/피인용 타임라인 분석

DeSimone, Joseph M.; Finniss, Mathew; Napier, Mary; Pandya, Ashish; Parrott, Matthew, Asymmetric bifunctional silyl monomers and particles thereof as prodrugs and delivery vehicles for pharmaceutical, chemical and biological agents.
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DeSimone, Joseph M.; Finniss, Mathew; Napier, Mary; Pandya, Ashish; Parrott, Matthew, Asymmetric bifunctional silyl monomers and particles thereof as prodrugs and delivery vehicles for pharmaceutical, chemical and biological agents.
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DeSimone, Joseph; Parrott, Matthew; Murphy, Andrew; Petros, Robby A., Degradable compounds and methods of use thereof, particularly with particle replication in non-wetting templates.
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Cheng Chieh-Min (Arlington MA) Giudice Anthony C. (Wakefield MA) Hardin John M. (Jamaica Plain MA) Liang Rong-Chang (Lexington MA) Wan Leonard C. (Chestnut Hill MA), On-press developable lithographic printing plate precursor.
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Nakano Yuko (Ibaraki JPX) Takeyama Naoki (Settsu JPX) Ueda Yuji (Izumi JPX) Kusumoto Takehiro (Takarazuka JPX) Oka Hiromi (Takatsuki JPX), Photoresist composition containing alkyletherified polyvinylphenol.
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Kaimoto Yuko,JPX ; Takechi Satoshi,JPX ; Oikawa Akira,JPX, Photoresist with bleaching effect.
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Maeda, Hirotoshi; Kunimune, Kouichi; Watanabe, Eiji; Katou, Kouichi, Photosensitive polymide precursor resin composition.
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Jun Hatakeyama JP; Takeshi Kinsho JP; Mutsuo Nakashima JP; Koji Hasegawa JP, Polymer, resist composition and patterning process.
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Takeyama Naoki,JPX ; Ueki Hiromi,JPX ; Ueda Yuji,JPX ; Kusumoto Takehiro,JPX ; Nakano Yuko,JPX, Positive photoresist composition.
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Binder Horst,DEX ; Schwalm Reinhold,DEX ; Funhoff Dirk,DEX, Radiation-sensitive mixture.
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IPC	Description
A	생활필수품
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A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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