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Installation for charging and discharging substrates out of a vacuum tank 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B05C-013/00
출원번호 US-0217941 (1988-07-12)
우선권정보 DE-3814924 (1988-05-03)
발명자 / 주소
  • Walde Michael (Rodenbach DEX) Zeidler Peter (Hanau DEX) Domroese Dirk (Bispingen-Behringen DEX)
출원인 / 주소
  • Leybold Aktiengesellschaft (Hanau DEX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 3  인용 특허 : 16

초록

In apparatus for charging and discharging substrates, substrates are disposed in a magazine or substance store and into the pre-chamber of a high-vacuum-processing-chamber which is made as a vacuum chamber, the magazine being pushed into a housing, which at its lower side provides an opening. The ho

대표청구항

Apparatus for the charge and discharge of substrates in a vacuum tank having an opening, into a pre-chamber of a high vacuum processing chamber for treating the surfaces of the substrates, comprising: a substrate holder, a substrate store, an air lock plate onto which the substrate store can be disp

이 특허에 인용된 특허 (16)

  1. Prentakis Antonios E. (Cambridge MA), Apparatus and method for loading and unloading wafers.
  2. Hazano Shigeki (Yokohama CA JPX) Shibagaki Masahiro (San Jose CA) Jyo Hidetaka (Sagamihara JPX) Sensui Reiichiro (Sagamihara JPX) Iwami Munenori (Yokohama JPX) Suzuki Noboru (Chigasaki JPX), Apparatus for producing semiconductor devices.
  3. Davis Cecil J. (Greenville TX) Spencer John E. (Plano TX) Johnson Randall E. (Carrollton TX) Jucha Rhett B. (Celeste TX) Brown Frederick W. (Tarrant TX) Kohan Stanford P. (Garland TX), Automated single slice cassette load lock plasma reactor.
  4. Davis Cecil J. (Greenville TX) Spencer John E. (Plano TX) Hockersmith Dan T. (Garland TX) Hildenbrand Randall C. (Richardson TX) Brown Frederick W. (Colleyville TX) Kohan Stanford P. (Garland TX), Automated single slice powered load lock plasma reactor.
  5. Uehara, Akira; Hijikata, Isamu; Nakane, Hisashi; Nakayama, Muneo, Automatic plasma processing device and heat treatment device.
  6. Van Mastrigt Max (San Jose CA), Chemical vapor deposition apparatus.
  7. Boys Donald R. (Cupertino CA) Graves Walter E. (San Jose CA), Disk or wafer handling and coating system.
  8. Zajac John (San Jose CA) Mirkovich Ninko T. (Novato CA) Rathmann Thomas M. (Rohnert Park CA) Lachenbruch Roger B. (Petaluma CA), Modular article processing machine and method of article handling therein.
  9. Eltoukhy Atef (San Jose CA), Pallet-loading system.
  10. Rubin Richard H. (West Paterson NJ) Hillman Gary (Livingston NJ) Zarr Lewis E. (Sparta NJ) Hayes William K. (Parsippany NJ), Process apparatus and method and elevator mechanism for use in connection therewith.
  11. Parikh Mihir (San Jose CA) Bonora Anthony C. (Menlo Park CA), Sealable transportable container having a particle filtering system.
  12. Harada Hiroshi (Tokyo JPX) Iwasawa Yoshiyuki (Tokyo JPX) Ishida Tsutomu (Tokyo JPX) Kobayashi Shintaro (Tokyo JPX), Semiconductor processing system.
  13. Foley Michael S. (Beverly MA), Substrate handling system.
  14. Ukai Katsumi (Fuchu JPX) Tsukada Tsutomu (Fuchu JPX) Ikeda Kouji (Fuchu JPX) Adachi Toshio (Fuchu JPX), Vacuum processing apparatus.
  15. Davis Cecil J. (Greenville TX) Matthews Robert (Plano TX) Hildenbrand Randall C. (Richardson TX), Vacuum processing system.
  16. Dimock Jack A. (Santa Barbara CA) Woestenburg Dirk P. (Summerland CA), Wafer processing machine with evacuated wafer transporting and storage system.

이 특허를 인용한 특허 (3)

  1. French ; Jr. Norman L., Circuit and apparatus for verifying a chamber seal, and method of depositing a material onto a substrate using the same.
  2. Norman L. French, Jr., Circuit and apparatus for verifying a chamber seal, and method of depositing a material onto a substrate using the same.
  3. Ren, Daqing, Equipment platform system and wafer transfer method thereof.
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