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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0217941 (1988-07-12) |
우선권정보 | DE-3814924 (1988-05-03) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 16 |
In apparatus for charging and discharging substrates, substrates are disposed in a magazine or substance store and into the pre-chamber of a high-vacuum-processing-chamber which is made as a vacuum chamber, the magazine being pushed into a housing, which at its lower side provides an opening. The ho
Apparatus for the charge and discharge of substrates in a vacuum tank having an opening, into a pre-chamber of a high vacuum processing chamber for treating the surfaces of the substrates, comprising: a substrate holder, a substrate store, an air lock plate onto which the substrate store can be disp
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