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[미국특허] Apparatus and process for producing a stable beam of fine particles 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C25B-011/02
출원번호 US-0052148 (1987-05-21)
우선권정보 JP-0059619 (1985-03-26); JP-0091029 (1985-04-30); JP-0091030 (1985-04-30); JP-0097696 (1985-05-10); JP-0097699 (1985-05-10); JP-0097700 (1985-05-10); JP-0115364 (1985-05-30); JP-0115365 (1985-05-30); JP-0126
발명자 / 주소
  • Ando Kenji (Kawasaki JPX) Chiba Yuji (Atsugi JPX) Masaki
  • deceased Tatsuo (late of Yokohama JPX by Yoshiko Masaki
  • legal successor) Sugata Masao (Yokohama JPX) Osabe Kuniji (Tama JPX) Kamiya Osamu
출원인 / 주소
  • Canon Kabushiki Kaisha (Tokyo JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 19  인용 특허 : 10

초록

An apparatus for controlling a flow of fine particles is provided which comprises a convergent-divergent nozzle in a flow path of the fine particles. The nozzle may be operated under an optimum expansion condition, and the differential coefficient of the streamline at the channel inside the nozzle v

대표청구항

Apparatus for bringing fine particles formed from a first substance into contact with a second substance, comprising: a convergent divergent nozzle connected between gas supply means and a chamber, the gas supply means being arranged to supply to the nozzle a carrier gas with fine particles of the f

이 특허에 인용된 특허 (10) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Zverev Anatoly I. (ulitsa Bratislavskaya ; 26 ; kv. 22 Kiev SUX) Bondarenko Alexandr S. (ulitsa Nizhegorodskaya ; 26 ; kv. 40 Moscow SUX), Apparatus for explosive application of coatings.
  2. Hori Fumio (23 ; 15ban ; Kentanicho Nishinomiyashi ; Hyoken JPX), Apparatus for obtaining Mg and Ca through carbon reduction.
  3. Suntola Tuomo S. (Espoo FIX) Pakkala Arto J. (Espoo FIX) Lindfors Sven G. (Espoo FIX), Apparatus for performing growth of compound thin films.
  4. Henery Vern A. (Plum Borough PA), Apparatus for vaporizing solid coating reactants.
  5. Gorinas Guy (Annecy FR), Device for the rapid depositing of oxides in thin layers which adhere well to plastic supports.
  6. Browning, James A., Highly concentrated supersonic material flame spray method and apparatus.
  7. Schleimer Francois (Esch LUX) Burton Clement (Esch LUX) Bock Andr (Esch LUX) Peckels Jean (Esch LUX), Method and apparatus for the acceleration of solid particles entrained in a carrier gas.
  8. Houben Johan M. (Lieshout NLX), Plasma spraying apparatus.
  9. Hiratake Susumu (Kasugai JPX), Plasma torch and a method of producing a plasma.
  10. Morimoto Kiyoshi (Mobara JPX) Takagi Toshinori (Nagaokakyo JPX), Process for forming organic film.

이 특허를 인용한 특허 (19) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Kong,Peter C., Chemical reactor and method for chemically converting a first material into a second material.
  2. Kong, Peter C., Chemical reactor for converting a first material into a second material.
  3. Fukanuma, Hirotaka, Cold-spray nozzle and cold-spray device using cold-spray nozzle.
  4. Kong, Peter C., Combustion flame-plasma hybrid reactor systems, and chemical reactant sources.
  5. Adams, Robbie J., Erosion resistant torch.
  6. Brent A. Detering ; Alan D. Donaldson ; James R. Fincke ; Peter C. Kong, Fast quench reactor and method.
  7. Detering,Brent A.; Kong,Peter C., Fast-quench reactor for hydrogen and elemental carbon production from natural gas and other hydrocarbons.
  8. Ohmi, Tadahiro; Osawa, Hiroshi; Tanaka, Nobuyoshi; Ino, Kazuhide; Shinohara, Toshikuni; Shirai, Yasuyuki; Hirayama, Masaki, Gas supply path structure for a gas laser.
  9. Ohmi, Tadahiro; Osawa, Hiroshi; Tanaka, Nobuyoshi; Ino, Kazuhide; Shinohara, Toshikuni; Shirai, Yasuyuki; Hirayama, Masaki, Laser gas supply path structure in an exposure apparatus.
  10. Bayer,Erwin; Betz,Philip; Hoeschele,Joerg; Oeffinger,Friedrich; Steinwandel,Juergen, Method and apparatus for plasma welding with low jet angle divergence.
  11. Nikawa Kiyoshi,JPX, Method and device of testing a semiconductor integrated circuit chip in which a voltage across the semiconductor integrated circuit chip is detected while an ultrasonic wave beam is projected thereon.
  12. Nikawa Kiyoshi,JPX, Method and device of testing semiconductor integrated circuit chip capable of preventing electron-hole pairs.
  13. Tsuruta, Takaharu; Hayashi, Tadahisa, Method for drying under reduced pressure using microwaves.
  14. Minton Timothy K. ; Giapis Konstantinos P., Semiconductor etching by hyperthermal neutral beams.
  15. Behrens Hermann W., Supersonic gas flow device incorporating a compact supersonic diffuser.
  16. Arai Michio,JPX, Thermal plasma annealing system, and annealing process.
  17. Fincke, James R.; Detering, Brent A., Thermal synthesis apparatus.
  18. Fincke, James R.; Detering, Brent A., Thermal synthesis apparatus and process.
  19. Adams, Robbie J., Variable orifice torch.

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