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Processing apparatus for semiconductor wafers

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B24C-003/00
출원번호 US-0177784 (1988-04-05)
우선권정보 JP-0156061 (1987-06-23); JP-0313667 (1987-12-11)
발명자 / 주소
  • Tada Masuo (Yao JPX) Hata Takeki (Kobe JPX) Fukumoto Takaaki (Itami JPX) Ohmori Toshiaki (Itami JPX)
출원인 / 주소
  • Tsiyo Sanso Co., Ltd. (both of JPX 03) Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha (both of JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 28  인용 특허 : 6

초록

A cleaning method and a gettering method for semiconductor wafers comprises blasting frozen particles at the surface of a semiconductor wafer. A processing apparatus for a semiconductor wafer comprises means for forming ultrafine frozen particles and means for blasting the frozen particles at the su

대표청구항

An apparatus for producing and propelling frozen particles against a surface comprising: a freezing chamber for containing a first gas and a first liquid at a temperature below the freezing point of a second liquid for freezing a mist of the second liquid to form frozen particles; a diffuser dispose

이 특허에 인용된 특허 (6)

  1. Whitlock Walter H. (Peapack NJ) Weltmer ; Jr. William R. (Murray Hill NJ) Clark James D. (Mountainside NJ), Apparatus and method for removing minute particles from a substrate.
  2. Guiller ; Jacques, Apparatus for freezing small drops of liquid.
  3. Fong Calvin C. (Beverly Hills CA) Altizer John W. (Simi Valley CA) Arnold Vernon E. (Fillmore CA) Lawson John K. (Granada Hills CA), Blasting machine utilizing sublimable particles.
  4. Ichinoseki Tsuyoshi ((Yoshizawa Jutaku E-206) No. 844-2 ; Yoshizawa-cho Mito-shi ; Ibaragi-ken JPX) Kato Hirobumi ((Hyakujuen Jutaku D-302) No. 2617-2 ; Motoyoshida-cho Mito-shi ; Ibaragi-ken JPX) Mi, Cleaning method.
  5. McFee Richard (R.D. 1 Union Springs NY 13160), Dual open cycle heat pump and engine.
  6. Carr Lawrence S. (150 Silvarado Trail-#53 Napa CA 94559), Media blast paint removal system.

이 특허를 인용한 특허 (28)

  1. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero ; van der Heide Robert G., Aerosol surface processing.
  2. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero ; van der Heide Robert G., Aerosol surface processing.
  3. Bran,Mario E., Apparatus for megasonic processing of an article.
  4. Huynh Cuc K. ; Linde Harold G. ; Marmillion Patricia E. ; Palagonia Anthony M. ; Pierson Bernadette A. ; Rutten Matthew J., Apparatus for removing slurry particles.
  5. Manificat, Andre, Apparatus for storing and transporting ice balls, without any sticking thereof, from their place of production to their place of use, where they are projected onto a target.
  6. Goenka Lakhi Nandlal (Ann Arbor MI), CO2 cleaning nozzle and method with enhanced mixing zones.
  7. Goenka Lakhi N. (Ann Arbor MI), CO2 nozzle and method for cleaning pressure-sensitive surfaces.
  8. Bishop Phillip W. ; Harrover Alexander J., Carbon dioxide cleaning process.
  9. Han, Yong-Pil; Sawin, Herbert H., HF vapor phase wafer cleaning and oxide etching.
  10. Kramer, Gary W.; Frankel, Richard S., High flux heat removal system using liquid ice.
  11. Paul A. Manfredi, High pressure cleaning.
  12. Butler Tom ; Monserud Dave ; Bothell Dave ; Steele Dave ; Hake John, Method and apparatus for ultra high pressure water jet peening.
  13. Wen Ziying, Method for chemical processing semiconductor wafers.
  14. Bran, Mario E., Method for megasonic processing of an article.
  15. Xin Yun-Biao ; Yoshimura Ichiro,JPX ; Erk Henry F. ; Vogelgesang Ralph V. ; Hensiek Stephen Wayne, Method for processing a semiconductor wafer.
  16. Bran,Mario E., Method of cleaning a side of a thin flat substrate by applying sonic energy to the opposite side of the substrate.
  17. Bran, Mario E., Method of manufacturing integrated circuit devices.
  18. Huynh Cuc K. ; Linde Harold G. ; Marmillion Patricia E. ; Palagonia Anthony M. ; Pierson Bernadette A. ; Rutten Matthew J., Method of removing slurry particles.
  19. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero, Processing a surface.
  20. DePalma, Philip W.; Sherman, Robert, System and method for controlling humidity in a cryogenic aerosol spray cleaning system.
  21. Bran, Mario E., System for megasonic processing of an article.
  22. Bran,Mario E., Transducer assembly for megasonic processing of an article and apparatus utilizing the same.
  23. Bran, Mario E., Wafer cleaning.
  24. Bran, Mario E., Wafer cleaning.
  25. Bran Mario E., Wafer cleaning method.
  26. Mario E. Bran, Wafer cleaning method.
  27. Bran Mario E., Wafer cleaning system.
  28. Bran Mario E., Wafer cleaning system.
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