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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0257854 (1988-10-14) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 14 인용 특허 : 7 |
A semiconductor substrate heater process and apparatus are disclosed for uniformly heating semiconductor substrates. A device for supporting the back side of an IC wafer in a reaction chamber and for conduction heating therein and auxiliary heat directed to the front side of the substrate by reflect
A reaction apparatus for conducting treatment of thin film materials onto semiconductor substrates, said apparatus comprising: a reaction chamber; a substrate supporting and heating assembly in said chamber comprising: a heating container composed of thermally conductive material and having a flat w
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