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Making an amorphous layer 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B05D-003/06
  • C23C-016/00
출원번호 US-0085854 (1987-08-14)
우선권정보 DE-3628443 (1986-08-21)
발명자 / 주소
  • Steinwandel Juergen (Markdorf DEX) Hauser Manfred (Leonberg DEX) Hoeschele Joerg (Stuttgart DEX)
출원인 / 주소
  • Dornier System GmbH (Friedrichshafen DEX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 6  인용 특허 : 13

초록

Amorphous layers are made by decomposing one or several gaseous compounds which include an element or elements to be deposited. These are group 3 and 5 or group 4 elements but amorphous layers of other metals can also be made. The compound is added in a small concentration to a hot gas, preferably h

대표청구항

Method of providing and producing a layer on a carrier or on a substrate, the layer to include one or two particular elements, comprising the steps of; providing a gaseous blend which includes a compound or compounds of said element or elements together with a carrier gas, the carrier gas being a la

이 특허에 인용된 특허 (13)

  1. Fujiyashu Hiroshi (Shizuoka JPX) Kurosawa Yoshiki (Shizuoka JPX) Kaneko Masaru (Shizuoka JPX), 7C apparatus for forming crystalline films of compounds.
  2. Ito Hiroki (Amagasaki JPX), Apparatus for forming a thin film.
  3. Takagi Toshinori (Nagaokakyo JPX) Morimoto Kiyoshi (Mobara JPX), Apparatus for forming compound semiconductor thin-films.
  4. Knauer Wolfgang (Malibu CA), Cluster source for nonvolatile species, having independent temperature control.
  5. Knauer Wolfgang (Malibu CA) Bartelt John L. (Camarillo CA), Energy intensive surface reactions using a cluster beam.
  6. Tsukazaki Hisashi (Hyogo JPX) Yamanishi Kenichiro (Hyogo JPX) Yasunaga Seiji (Hyogo JPX), Evaporation source with a shaped nozzle.
  7. Takagi Toshinori (Nagaokakyo JPX), Ionized-cluster deposited on a substrate and method of depositing ionized cluster on a substrate.
  8. Friedman, Lewis; Buehler, Robert J.; Matthew, Michael W.; Ledbetter, Myron, Method of precisely modifying predetermined surface layers of a workpiece by cluster ion impact therewith.
  9. Akira Shuhara (Amagasaki JPX) Kenichiro Yamanishi (Amagasaki JPX) Yoshibumi Minowa (Amagasaki JPX), Method of producing silicon dioxide films.
  10. Morimoto Kiyoshi (Mobara JPX) Takagi Toshinori (Nagaokakyo JPX), Process for forming organic film.
  11. Smith Richard D. (Richland WA), Supercritical fluid molecular spray film deposition and powder formation.
  12. Muehlberger Erich (San Clemente CA) Kremith Roland D. (Newport Beach CA), System and method for plasma coating.
  13. Kawagoe Yasuyuki (Amagasaki JPX) Yamanishi Kenichiro (Amagasaki JPX) Yasunaga Seiji (Amagasaki JPX), Thin film deposition apparatus.

이 특허를 인용한 특허 (6)

  1. Atwell David R., Solid precursor injector apparatus.
  2. Atwell David R., Solid precursor injector apparatus and method.
  3. Atwell David R., Solid precursor injector apparatus and method.
  4. Gualtieri, Devlin M., Steered beam ultrasonic sensor for object location and classification.
  5. Clark Rodney L. ; Dean ; Jr. Robert N., Three dimensional micromachined electromagnetic device and associated methods.
  6. Faguet, Jacques; Lee, Eric M., Vapor deposition system.
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