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Wrinkle masking composition of sodium polystyrene sulfonate and process for use 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • A61K-007/02
출원번호 US-0259713 (1988-10-19)
발명자 / 주소
  • Kawan Antoine (Washington DC)
출원인 / 주소
  • The Gillette Company (Boston MA 02)
인용정보 피인용 횟수 : 10  인용 특허 : 12

초록

A wrinkle masking composition and process for use which temporarily eliminates fine line wrinkles and blemishes of the skin by filling, covering or otherwise effectively masking them. The composition includes a film forming polymer, a plasticizer for the polymeric matrix, a biopolymeric modifier and

대표청구항

A wrinkle masking composition comprising: (a) a film forming water soluble polymer comprising sodium polystyrene sulfonate compatible with skin, which forms a basic matrix holding together said composition over skin and having adhesive properties to skin; (b) a plasticizer for said polymeric matrix,

이 특허에 인용된 특허 (12)

  1. Cioca Gheorghe (Coatesville PA), Cosmetic and pharmaceutical sheet material containing polypeptides.
  2. Arraudeau Jean-Pierre (Paris FRX) Patraud Jeanne (Paris FRX) Le Gall Louis (Bures S/Yvette FRX), Cosmetic make-up composition.
  3. Clavin Harold D. (2001 Santa Monica Blvd. ; Suite 890-West Santa Monica CA 90404), Cosmetic tape and method.
  4. Strianse Sabbat J. (Caldwell NJ) Sherry Howard S. (Cherry Hill NJ) Hertzenberg Elliot P. (Wilmington DE), Cosmetic vehicle.
  5. Ibe Sachiaki (Tokyo JPX), Cosmetics.
  6. della Valle Francesco (Padova ITX) Romeo Aurelio (Rome ITX), Esters of hyaluronic acid.
  7. Saute ; Robert E., Face mask.
  8. Nara, Michiko; Yamazaki, Kazunori; Akiyama, Yasuko, Make-up cosmetics composition.
  9. Gillespie Sally I. (233 N. Causeway New Smyrna Beach FL 32069), Skin firming composition and method.
  10. Liff Lawrence J. (6502 N. Central #A-101 Phoenix AZ 85012), Wax base makeup composition.
  11. Mercado Clara (Aberdeen NJ), Wrinkle treatment formulation.
  12. Hofmann Ross E. (1104 Malaga Ave. Coral Gables FL 33134), Wrinkle-reducing method.

이 특허를 인용한 특허 (10)

  1. Hanabusa, Kenji; Suzuki, Masahiro, Basic amino acid derivatives.
  2. Koike,Kenzo; Shimizu,Masaki; Fukasawa,Junichi; Ota,Hiroshi; Fujimura,Tsutomu; Tsukahara,Kazue; Suzuki,Yuji, Cosmetic composition.
  3. Lee,Sean; Kessler,Susanna; Forberich,Oliver; Buchwar,Claire; Greenspan,David C., Cosmetic, personal care, cleaning agent, and nutritional supplement compositions and methods of making and using same.
  4. Pinchuk, Leonard, Elastomeric polymer filament cosmetic implant.
  5. Uemura, Tomohiro; Tanahashi, Masanori; Muroi, Yoshiyuki; Kono, Yoshinao, Keratotic plug remover.
  6. Rodan Kathryn P. ; Fields Kathy A. ; Klein Kenneth ; Garlen David, Masque.
  7. Dusch Perry R., Material and method to assist in exercising facial muscles.
  8. Reinmüller, Johannes, Pharmaceutical applications of hyaluronic acid preparations.
  9. Gangadharan Balgopal ; Hayward Marshall A.,GB2, Skin cleanser.
  10. Manning, Lauren E.; Wang, Miao; Galdi, Angelike A.; Chiou, Catherine, Skin tightening compositions.
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