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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0349520 (1989-05-09) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 19 인용 특허 : 6 |
An apparatus for even exposure of potted plants to sunlight includes a base, a potted plant receiving platter rotatably mounted to said base with the platter having an upstanding peripheral flange bounding an interior portion of the platter. A shroud is mounted to the base and defines a cowl which o
A system for even exposure of potted plants to radiation with said system comprising: a master unit having a base, a potted plant receiving platter mounted to said base for rotation about a central axis of said platter and motor means coupled with said platter for rotation thereof; a slave unit havi
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